[发明专利]硅片清洗装置

说明书

本发明公开了一种硅片清洗装置，包括清洗槽，其中设置清洗液，清洗槽上方设置有花篮固定装置，花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动，所述花篮固定装置下方设置有罩板，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内；所述罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，且两者之间关于竖直平面对称设置。进一步的，所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机，风幕机形成水平的帘门将清洗槽和其外部隔开。此处设置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，减少水纹产生，且水沿斜板运动减少慢慢提拉运动过程中运动阻力的问题，使液体在慢慢提拉过程中保持相对静止。

技术领域

本发明涉及硅片制作技术领域，具体涉及一种硅片清洗装置。

背景技术

在硅片清洗设备慢慢提拉工艺槽中，通过慢慢提拉工艺使硅片表面的杂志脱离，提高硅片表面洁净度。然后由于硅片在水蒸气中停留时间过长，硅片表面由热水逐步进入常温状态，表面容易产生冷凝水，在烘干过过程中容易产生水纹印，进而影响外观。

发明内容

本发明要解决的技术问题是硅片清洗过程中易产生水纹的技术问题。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种硅片清洗装置，包括清洗槽，其中设置清洗液，清洗槽上方设置有花篮固定装置，花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动，所述花篮固定装置下方设置有罩板，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内；所述罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，且两者之间关于竖直平面对称设置。

进一步的，所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机，风幕机形成水平的帘门将清洗槽和其外部隔开。

进一步的，所述清洗槽的两个侧边位于风幕机的下方设置有溢流口。

进一步的，所述清洗槽上方还设置有一个新风腔室，花篮固定装置离开清洗槽后位于新风腔体中，新风腔体顶部设置有风机过滤机组；新风腔体中设置有一个竖直的隔板，隔板上设置有透气口；隔板与新风腔体侧壁之间形成抽气通道，在抽气通道顶部设置有抽风机。

从上述技术方案可以看出本发明具有以下优点：此处设置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，减少水纹产生，且水沿斜板运动减少慢慢提拉运动过程中运动阻力的问题，使液体在慢慢提拉过程中保持相对静止；形成的帘门不仅可以隔离水蒸气上升污染硅片，还可以起到烘干硅片表面的作用；设置抽风机可以降低湿度，提高烘干效率，进一步减少水纹。

附图说明

图1为本发明的主视透视图；

图2为本发明的侧视透视图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式做具体说明。

如图1和图2所示，本发明的硅片清洗装置包括清洗槽4，清洗槽其中设置清洗液，清洗槽底部可以设置加热保温装置，使清洗液保持在恒定温度。清洗槽4上方设置有花篮固定装置5，花篮固定装置5可带动位于其中的花篮上下移动。花篮固定装置可通过气缸实现上下移动。花篮固定装置主要包括多个槽盒，槽盒中可放入花篮。花篮则用于装载硅片。花篮固定装置下方设置有罩板3，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内，即罩板从下方可以对花篮固定装置进行覆盖，罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，倾斜角在5～15°之间，且两者之间关于竖直平面对称设置。

此处设置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，减少水纹产生。且水沿斜板运动减少慢慢提拉运动过程中运动阻力的问题，使液体在慢慢提拉过程中保持相对静止。

所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机2，风幕机2形成水平的帘门将清洗槽和其外部隔开。风幕机2可以通入热空气，形成的帘门不仅可以隔离水蒸气上升污染硅片，还可以起到烘干硅片表面的作用。所述清洗槽的两个侧边位于风幕机的下方设置有溢流口6。

所述清洗槽上方还设置有一个新风腔室1，花篮固定装置离开清洗槽后位于新风腔体1 中，新风腔体1顶部设置有风机过滤机组7；新风腔体1中设置有一个竖直的隔板9，隔板9 上设置有透气口10；隔板9与新风腔体1侧壁之间形成抽气通道8，在抽气通道顶部设置有抽风机。设置抽风可以降低湿度，提高烘干效率，进一步减少水纹。