[发明专利]具有键合和共享逻辑电路的存储器阵列在审

专利信息
申请号: 202010219899.1 申请日: 2020-03-25
公开(公告)号: CN112071827A 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: R·法斯托;K·哈斯纳特;P·马吉;O·W·容格罗特;K·帕拉特 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;G11C5/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 戴开良
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 共享 逻辑电路 存储器 阵列
【说明书】:

集成电路存储器包括键合到存储器阵列的逻辑电路。例如,逻辑电路与存储器阵列分开地形成,且之后逻辑电路和存储器阵列被键合。逻辑电路便于存储器阵列的操作,并包括互补金属氧化物半导体(CMOS)逻辑部件,诸如字线驱动器、位线驱动器、存储器阵列的感测放大器。在示例中,代替键合到单个存储器阵列,逻辑电路键合到两个存储器阵列并由两个存储器阵列共享。例如,逻辑电路在两个存储器阵列之间。由于键合过程,形成键合界面层。因此,在这样的示例中,第一键合界面层在逻辑电路和第一存储器阵列之间,以及第二键合界面层在逻辑电路和第二存储器阵列之间。

背景技术

闪速存储器(诸如NAND闪速存储器)是非易失性存储介质。闪速存储器阵列通常耦合到便于存储器阵列的操作的逻辑电路。逻辑电路具有存储器阵列的部件,诸如字线驱动器、位线驱动器和感测放大器。逻辑电路例如包括互补金属氧化物半导体(CMOS)逻辑。用于形成存储器阵列的过程的热循环经常不利地影响逻辑电路。如将按照本公开内容认识到的并且依次解释的,存在与降低逻辑电路的复杂度、功率消耗和/或成本(例如,存储器的每位成本)以及避免在逻辑电路上的存储器阵列处理的热循环的不利影响相关联的许多重大问题。

附图说明

图1示出了根据一些实施方式的包括第一存储器阵列、第二存储器阵列和逻辑电路的集成存储器结构的横截面视图,其中,第一键合界面层在第一存储器阵列和逻辑电路之间,以及第二键合界面层在第二存储器阵列和逻辑电路之间。

图2A-2C示出了根据一些实施方式的使用熔融键合过程来键合存储器阵列和逻辑电路、从而在存储器阵列和逻辑电路之间形成键合界面层的示例过程。

图3A-B示出了根据一些实施方式的使用混合键合过程来键合存储器阵列和逻辑电路、从而在存储器阵列和逻辑电路之间形成键合界面层的示例过程。

图3C示出了根据一些实施方式的使用混合键合过程来键合存储器阵列和逻辑电路、从而形成键合界面层的示例过程,其中,混合键合涉及通孔到线键合。

图4示出了根据一些实施方式的包括第一存储器阵列、第二存储器阵列以及在第一和第二存储器阵列之间的逻辑电路的集成存储器结构的横截面视图,其中,逻辑电路分别借助于第一和第二键合界面层与第一和第二存储器阵列分离。

图5A、5B、5C、5D、5E和5F共同示出了根据一些实施方式的用于形成包括第一存储器阵列、第二存储器阵列以及插在第一和第二存储器阵列之间的逻辑电路的存储器结构的方法,其中,第一键合界面层在第一存储器阵列和逻辑电路之间,以及第二键合界面层在第二存储器阵列和逻辑电路之间。

图6示出了根据一些实施方式的包括存储器阵列和逻辑电路的存储器结构的横截面视图,其中。键合界面层插在存储器阵列和逻辑电路之间。

图7A、7B和7C共同示出了根据一些实施方式的用于形成包括存储器阵列和逻辑电路的存储器结构的方法,其中,键合界面层在存储器阵列和逻辑电路之间。

图8示出了根据一些实施方式的包括第一存储器阵列、第二存储器阵列和逻辑电路的存储器结构的横截面视图,其中,键合界面层插在第二存储器阵列和逻辑电路之间,而没有任何这样的键合界面层在第一存储器阵列和逻辑电路之间。

图9A、9B、9C和9D共同示出了根据一些实施方式的用于形成包括第一存储器阵列、第二存储器阵列和逻辑电路的存储器结构的方法,其中,键合界面层插在第二存储器阵列和逻辑电路之间,而没有任何这样的键合界面层在第一存储器阵列和逻辑电路之间。

图10示出了根据本公开内容的一个或多个实施方式的利用本文所公开的一个或多个集成存储器结构实现的示例计算系统。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010219899.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top