[发明专利]一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置有效
申请号: | 202010221589.3 | 申请日: | 2020-03-25 |
公开(公告)号: | CN111349885B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 罗晋;张飞;卫耀伟;李树刚;李海波;李洁;唐明;王震;吴倩;潘峰;罗振飞;胡建平;张清华;刘民才;王健 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐正瑜 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 遮蔽 确定 方法 镀膜 装置 | ||
1.一种遮蔽板确定方法,其特征在于,应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定,所述方法包括:
获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚,以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸,所述初始膜厚为在无遮蔽板的情况下所述待镀膜点的镀膜厚度,所述待镀膜元件在所述镀膜设备中进行反向行星式旋转,其中,所述多个待镀膜点包括待镀膜元件上的任一点,所述待镀膜元件的尺寸包括待镀膜元件的半径;所述镀膜设备的尺寸包括镀膜设备的公转轴半径,所述镀膜设备的公转轴半径为镀膜设备的中心轴线到待镀膜元件的中心点的最短距离;所述待镀膜元件的半径大于所述镀膜设备的公转轴半径与预设参数的乘积,所述预设参数为根据待镀膜元件所在的平面与水平面的夹角得到的;
根据所述待镀膜元件的半径以及所述镀膜设备的公转轴半径,计算得到所述遮蔽板的划分长度;
根据所述划分长度、所述待镀膜元件的半径以及所述镀膜设备的公转轴半径,确定所述遮蔽板的多个待设定区域,以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点,所述多个待设定区域划分为第一待设定区域、第二待设定区域和第三待设定区域;其中,将距离遮蔽板预设点小于或等于所述划分长度的区域,确定为第一待设定区域;将距离遮蔽板的预设点大于所述划分长度,并且小于或等于所述镀膜设备的公转轴半径与所述预设参数的乘积,同时靠近镀膜设备的中心轴线一侧的区域,确定为第二待设定区域;将距离遮蔽板的预设点大于所述划分长度,并且小于或等于所述待镀膜元件的半径,同时远离镀膜设备的中心轴线一侧的区域,确定为第三待设定区域;
根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚,计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角,所述展开角为距离遮蔽板预设点预设距离的圆弧角度,所述预设距离为所述展开角对应的待镀膜点与待镀膜元件中心点的距离;
根据所有的待镀膜点对应的展开角,确定目标遮蔽板。
2.根据权利要求1所述的遮蔽板确定方法,其特征在于,所述展开角包括第一待设定区域对应的第一展开角,所述根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚,计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角,包括:
获取所述第一待设定区域对应的第一边缘待镀膜点的初始膜厚;以及获取所述第三待设定区域中远离第一待设定区域对应的第二边缘待镀膜点的初始膜厚;
根据所述第一边缘待镀膜点的初始膜厚以及第二边缘待镀膜点的初始膜厚,确定所述第一待设定区域对应的补偿膜厚;
根据所述第一待设定区域对应的每一待镀膜点的初始膜厚与所述第一边缘待镀膜点的初始膜厚,以及所述补偿膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的遮蔽板的第一展开角。
3.根据权利要求2所述的遮蔽板确定方法,其特征在于,根据所述第一待设定区域对应的每一待镀膜点的初始膜厚与所述第一边缘待镀膜点的初始膜厚,以及所述补偿膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的遮蔽板的第一展开角,包括:
根据所述第一待设定区域对应的每一待镀膜点的初始膜厚与所述第一边缘待镀膜点的初始膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的第一期望遮蔽膜厚;
根据所述待镀膜点的初始膜厚、所述待镀膜点的第一期望遮蔽膜厚和第一边缘待镀膜点的初始膜厚以及第一待设定区域对应的补偿膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的遮蔽板的第一展开角。
4.根据权利要求1所述的遮蔽板确定方法,其特征在于,所述展开角包括所述第二待设定区域对应的第二展开角以及第三待设定区域对应的第三展开角,所述根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚,计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角,包括:
获取所述第三待设定区域中远离第一待设定区域对应的第二边缘待镀膜点的初始膜厚;
根据所述第二待设定区域对应的每一待镀膜点的初始膜厚与所述第二边缘待镀膜点的初始膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的遮蔽板的第二展开角;
根据所述第三待设定区域对应的每一待镀膜点的初始膜厚与所述第二边缘待镀膜点的初始膜厚,计算得到所述待镀膜点对应的遮蔽板的第三展开角。
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