[发明专利]一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置

说明书

本申请提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，从而得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，保证膜厚控制的效果良好。

技术领域

本申请涉及镀膜领域，具体而言，涉及一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置。

背景技术

对于一些非圆形且口径较大的光学元件，通常采用反向行星式旋转镀膜的方式为其进行镀膜，保证光学元件在旋转过程中依次通过镀膜室中心轴线，防止发生光学元件之间的碰撞。反向行星旋转的镀膜方式提高了镀膜机镀制非圆形光学元件的口径，但同时也使镀制的大口径光学元件的膜厚不均匀问题更加突出。由于大口径光学元件的膜厚均匀性是影响激光器性能的关键指标之一，因此对反向行星旋转镀膜的大口径光学元件进行膜厚均匀性控制非常必要。

传统技术沿用平面行星式旋转镀膜的遮蔽板设计方法来确定反向行星式旋转镀膜方法中的遮蔽板，则会使镀制的大口径光学元件的膜厚均匀性很难达到理想效果。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，用以提供一种膜厚控制效果良好的遮蔽板。

第一方面，实施例提供一种遮蔽板确定方法，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸，所述初始膜厚为在无遮蔽板的情况下所述待镀膜点的镀膜厚度，所述待镀膜元件在所述镀膜设备中进行反向行星式旋转；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角，所述展开角为距离所述遮蔽板预设点预设距离的圆弧角度，所述预设距离为所述展开角对应的待镀膜点与待镀膜元件中心点的距离；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。

本申请实施例根据反向行星式旋转镀膜时待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸，将遮蔽板进行区域划分，针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，以此来得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，使得该目标遮蔽板具有膜厚控制的良好效果。

在可选的实施方式中，所述待镀膜元件的尺寸包括待镀膜元件的半径；所述镀膜设备的尺寸包括镀膜设备的公转轴半径，所述镀膜设备的公转轴半径为镀膜设备的中心轴线到待镀膜元件的中心点的最短距离；所述待镀膜元件的半径大于所述镀膜设备的公转轴半径与预设参数的乘积，所述预设参数为根据待镀膜元件所在的平面与水平面的夹角得到的；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，包括：根据所述待镀膜元件的半径以及所述镀膜设备的公转轴半径，计算得到所述遮蔽板的划分长度；根据所述划分长度、所述待镀膜元件的半径以及所述镀膜设备的公转轴半径，确定所述遮蔽板的多个待设定区域。

本申请实施例通过计算遮蔽板的划分长度，从而可以更加高效地对遮蔽板进行区域划分。

在可选的实施方式中，所述根据所述划分长度、所述待镀膜元件的半径以及所述镀膜设备的公转轴半径，确定所述遮蔽板的多个待设定区域，包括：将距离遮蔽板预设点小于或等于所述划分长度的区域，确定为第一待设定区域；将距离遮蔽板的预设点大于所述划分长度，并且小于或等于所述待镀膜设备的公转轴半径与所述预设参数的乘积，同时靠近镀膜设备的中心轴线一侧的区域，确定为第二待设定区域；将距离遮蔽板的预设点大于所述划分长度，并且小于或等于所述待镀膜元件的半径，同时远离镀膜设备的中心轴线一侧的区域，确定为第三待设定区域。