[发明专利]基片处理装置及基片处理方法

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，具有：

混合部，其按预定的混合比混合作为处理液的原料的第一磷酸与添加剂，来调配混合液；

修正所述处理液的原料的混合比的混合比修正部；和

用所述处理液处理基片的处理部，

所述混合部包括：用于贮存所述混合液的混合罐；对所述混合罐供给所述第一磷酸的第一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述添加剂的添加剂供给部，

所述混合比修正部具有：将所述混合液从所述混合部输送至所述处理部的送液线路；和在所述送液线路的中途供给第二磷酸的第二磷酸供给部。

2.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

具有控制部，其控制所述第一磷酸与所述添加剂的第一混合比和所述混合液与所述第二磷酸的第二混合比。

3.根据权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部基于所述基片的处理条件，变更所述第一混合比和所述第二混合比中的至少一者。

4.根据权利要求3所述的基片处理装置，其特征在于：

所述基片的处理条件是所述基片的要用所述处理液处理的图案。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述混合部具有多个所述混合罐。

6.根据权利要求5所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部在调配完的所述混合液从一个所述混合罐中被取出并向所述处理部输送的期间，在另一个所述混合罐中调配所述混合液。

7.根据权利要求5所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部在多个所述混合罐中按预定的顺序切换要向所述处理部送出调配完的所述混合液的所述混合罐。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述处理部设置有多个，

所述送液线路包括对多个所述处理部单独地输送所述混合液的单独配管。

9.根据权利要求1～4中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述混合比修正部包括在所述送液线路的中途暂时贮存所述混合液和所述第二磷酸的缓冲罐。

10.根据权利要求9所述的基片处理装置，其特征在于：

所述混合比修正部具有使从所述缓冲罐取出的所述处理液返回至所述缓冲罐的循环线路。

11.一种基片处理方法，其特征在于，包括：

按预定的第一混合比混合作为处理液的原料的第一磷酸与添加剂，来调配混合液的步骤；

按预定的第二混合比混合所述混合液与第二磷酸，来修正所述处理液的原料的混合比的步骤；和

用所述处理液来处理基片的步骤。

12.根据权利要求11所述的基片处理方法，其特征在于：

基于所述基片的处理条件，变更所述第一混合比和所述第二混合比中的至少一者。

13.根据权利要求12所述的基片处理方法，其特征在于：

所述基片的处理条件是所述基片的要用所述处理液处理的图案。

14.根据权利要求11～13中任一项所述的基片处理方法，其特征在于：

包括在调配完的所述混合液从一个所述混合罐中被取出并向所述处理部输送的期间，在另一个所述混合罐中调配所述混合液的步骤。

15.根据权利要求11～13中任一项所述的基片处理方法，其特征在于：

包括在多个混合罐中按预定的顺序切换要向处理所述基片的处理部送出调配完的所述混合液的混合罐的步骤。