[发明专利]一种基于光调控的红外吸收器有效

专利信息
申请号: 202010222419.7 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN111221066B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 邓光晟;孙寒啸;吕坤;杨军;尹治平 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘凤玲
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 调控 红外 吸收
【说明书】:

发明公开了一种基于光调控的红外吸收器,所述红外吸收器包括:n个吸收单元,n个吸收单元为阵列方式排布设置;各所述吸收单元包括二氧化硅基板、金属基底、光栅和钙钛矿薄层;所述金属基底用于防止入射波透过;所述二氧化硅基板位于所述金属基底上方,用于作为所述光栅的基底材料;所述光栅位于二氧化硅基板上方,用于实现不同频段红外波的吸收;所述钙钛矿薄层覆盖在所述光栅外表,用于通过接受光照强度改变自身介电常数,进一步调节吸收宽带。

技术领域

本发明涉及宽带吸收领域,具体是一种基于光调控的红外吸收器。

背景技术

红外波是指波长范围在1~500μm内的电磁波。由于红外波特别是中红外波拥有很多卓越的性能,使其医学成像、安全检查、产品检测等实际应用方面都具有重要的应用前景。目前的中红外吸收器的吸收频段较窄,很难实现宽带吸收。

发明内容

本发明的目的是提供一种基于光调控的红外吸收器,以实现中红外波段的宽带吸收。

为实现上述目的本发明提供了一种基于光调控的红外吸收器,所述红外吸收器包括:

n个吸收单元,n个吸收单元为阵列方式排布设置;各所述吸收单元包括二氧化硅基板、金属基底、光栅和钙钛矿薄层,n为大于0的整数;

所述金属基底用于防止入射波透过;

所述二氧化硅基板位于所述金属基底上方,用于作为所述光栅的基底材料;

所述光栅位于二氧化硅基板上方,用于实现不同频段红外波的吸收;

所述钙钛矿薄层覆盖在所述光栅外表,用于通过接受光照强度改变自身介电常数,进一步调节吸收宽带。

可选的,所述光栅由三氧化钼制成。

可选的,所述二氧化硅基板为立方体结构。

可选的,所述立方体结构的边长分别为a和b、厚度为hs,其中a、b、和hs均为大于0的整数。

可选的,所述光栅为梯形光栅。

可选的,所述二氧化硅基板的长度和所述金属基底的长度相同,所述二氧化硅基板的宽度和所述金属基底的宽度相同。

根据本发明提供的具体实施例,本发明公开了以下技术效果:

本发明公开了一种基于光调控的红外吸收器,所述红外吸收器包括:n个吸收单元,n个吸收单元为阵列方式排布设置;各所述吸收单元包括二氧化硅基板、金属基底、光栅和钙钛矿薄层;所述金属基底用于防止入射波透过;所述二氧化硅基板位于所述金属基底上方,用于作为所述光栅的基底材料;所述光栅位于二氧化硅基板上方,用于实现不同频段红外波的吸收;所述钙钛矿薄层覆盖在所述光栅外表,用于通过接受光照强度改变自身介电常数,进一步调节吸收宽带。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的吸收单元三维结构示意图;

图2为当梯形光栅的中心线沿x方向时,对极化电场沿y方向的入射波,在光照强度改变时的吸收频谱曲线图;

图3为当梯形光栅的中心线沿y方向时,对极化电场沿x方向的入射波,在光照强度改变时的吸收频谱曲线图;

图4为梯形光栅的厚度为20nm,当梯形光栅的中心线沿x方向时,对极化电场沿y方向的入射波,在光照强度改变时的吸收频谱曲线图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010222419.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top