[发明专利]光刻设备和光刻工艺中的方法

权利要求书

1.一种用于光刻设备中的部件，所述部件具有表面，所述表面面对另一部件的另一表面，所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动，

其中所述表面容纳有屏障系统，所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障，所述屏障系统包括：

至少一个第一开口，适于第一气体从其流动，以用于建立包围所述被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘；和

至少一个第二开口，相对于所述被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动，以用于被夹带到所述第一气体的流动中；

其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。

2.根据权利要求1所述的部件，其中所述第二气体的流动基本上是层流的。

3.根据权利要求1所述的部件，其中所述第二气体的流动被配置成从内侧冲刷所述被保护体积。

4.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成在所述第一气体的流动与所述第二气体的流动之间提供期望的流动平衡。

5.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动的体积流率大于所述第一气体的流动的体积流率。

6.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动的体积流率大于能够相对于所述被保护体积从所述第一气体的流动的径向内侧被夹带到所述第一气体的流动中的最大体积流率。

7.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成使得相对于所述被保护体积从所述第一气体的流动的径向内侧被夹带到所述第一气体的流动中的基本上任何气体是来自所述第二气体的流动的气体。

8.根据权利要求5所述的部件，其中所述第二气体的流动的体积流率是所述第一气体的流动的体积流率的约两倍。

9.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成使得基本上所有所述第二气体的流动被夹带到所述第一气体的流动中。

10.根据权利要求1所述的部件，其中所述屏障系统被配置成使得没有所述第二气体的流动在所述被保护体积内循环。