[发明专利]掩膜版组件及其工艺方法、制作功能膜层的工艺方法在审
申请号: | 202010232184.X | 申请日: | 2020-03-27 |
公开(公告)号: | CN111254387A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 徐海 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 组件 及其 工艺 方法 制作 功能 | ||
1.一种掩膜版组件,其特征在于,包括:
多个掩膜版,多个所述掩膜版上分别开设有与显示屏的不同区域对应的蒸镀开口、且多个所述掩膜版的蒸镀开口所组成的图案与所述显示屏的图案相同。
2.一种制作权利要求1所述的掩膜版组件的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
按照待制作的显示屏的形状,将所述显示屏上的形状分割为多个,获得多个图案;
在多个掩膜片上分别制作与多个所述图案一一对应的蒸镀开口,得到多个掩膜版。
3.根据权利要求2所述的掩膜版组件的工艺方法,其特征在于,当所述图案具有尖角区时,所述在多个掩膜片上分别制作与多个所述图案一一对应的蒸镀开口具体包括:
在每个所述掩膜片上制作与相应的所述图案相同的蒸镀开口之后,采用化学刻蚀工艺处理所述蒸镀开口的尖角区。
4.根据权利要求3所述的掩膜版组件的工艺方法,其特征在于,所述采用化学刻蚀工艺处理所述蒸镀开口的尖角区具体包括:
采用光刻胶将所述掩膜片上距离所述尖角区的边沿5~10mm以上的区域均覆盖;
采用刻蚀药液腐蚀所述掩膜片上未被光刻胶附着的区域,得到尖角区的厚度为100μm的掩膜版。
5.一种采用权利要求1所述的掩膜版组件来制作显示屏中功能膜层的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
采用掩膜版组件中多个掩膜版在基板上分别进行真空蒸镀,以形成显示屏的功能膜层。
6.根据权利要求5所述的掩膜版组件来制作显示屏中功能膜层的工艺方法,其特征在于,所述真空蒸镀的操作具体包括:
将所述掩膜版与所述基板上的对准标记对准;
将所述掩膜版与所述基板贴合后进行真空蒸镀。
7.一种掩膜版,其特征在于,包括:
外周遮挡部,所述外周遮挡部用于遮挡与显示屏的外侧区对应的基板区域;
悬空遮挡部,所述悬空遮挡部用于遮挡与所述显示屏的悬空区对应的基板区域,所述悬空遮挡部与所述外周遮挡部之间的间隙形成与所述显示屏的图案对应的蒸镀开口;
连接部,所述连接部将所述外周遮挡部与所述悬空遮挡部连接。
8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述连接部为连接线。
9.根据权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,所述连接线的直径为0.1mm。
10.根据权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,所述连接线采用ABS树脂或殷钢制作。
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