[发明专利]掩膜版组件及其工艺方法、制作功能膜层的工艺方法在审
申请号: | 202010232184.X | 申请日: | 2020-03-27 |
公开(公告)号: | CN111254387A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 徐海 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 组件 及其 工艺 方法 制作 功能 | ||
本发明公开一种掩膜版组件及其工艺方法、制作功能膜层的工艺方法,涉及OLED制作技术领域,用于解决现有的掩膜版无法制作与具有悬空区的异形屏对应的阴极层图案的问题。本发明掩膜版组件,包括:多个掩膜版,多个所述掩膜版上分别开设有与显示屏的不同区域对应的蒸镀开口、且多个所述掩膜版的蒸镀开口所组成的图案与所述显示屏的图案相同。本发明的掩膜版组件用于制作异形屏的功能膜层。
技术领域
本发明涉及OLED制作技术领域,尤其涉及一种掩膜版组件及其工艺方法、制作功能膜层的工艺方法。
背景技术
随着OLED(Organic Light-Emitting Diode,即有机发光二极管)技术的发展,OLED的应用在显示行业的应用也越来越多。
现有OLED屏包括基板、阳极层、有机功能层及阴极层,阳极层、有机功能层及阴极层形成在基板上。在制作异形屏时,阳极层采用真空溅射工艺进行薄膜溅射,有机功能层采用打印工艺进行制作,但是对于阴极层必须采用蒸镀方式进行制作,采用现有的掩膜版(MASK)无法制作与具有悬空区的异形屏(如空心D形)对应的阴极层图案。
发明内容
本发明提供一种掩膜版及其工艺方法、制作显示屏中功能膜层的工艺方法,用于解决现有的掩膜版无法制作与具有悬空区的异形屏对应的阴极层图案的问题。
为达到上述目的,本发明实施例采用如下技术方案:
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版组件,包括:多个掩膜版,多个所述掩膜版上分别开设有与显示屏的不同区域对应的蒸镀开口、且多个所述掩膜版的蒸镀开口所组成的图案与所述显示屏的图案相同;能够采用掩膜版组件中的多个掩膜版分别对基板进行真空蒸镀,从而解决现有技术的问题。
在本发明一些可能的实施例中,所述掩膜版具有尖角区,所述掩膜版上除尖角区以上的其他区域的厚度为所述掩膜版上尖角区的厚度的2~3倍,能够解决掩膜版的尖角区出现下垂的问题,并降低蒸镀得到的功能膜层在尖角区对应的区域出现阴影问题。
第二方面,本发明实施例还提供了一种制作上述掩膜版组件的工艺方法,包括以下步骤:按照待制作的显示屏的形状,将所述显示屏上的形状分割为多个,获得多个图案;在多个掩膜片上分别制作与多个所述图案一一对应的蒸镀开口,得到多个掩膜版;通过多个掩膜片对基板进行拼接蒸镀,从而实现异形屏上功能膜层的制作。
在本发明一些可能的实施例中,当所述图案具有尖角区时,所述在多个掩膜片上分别制作与多个所述图案一一对应的蒸镀开口,得到多个掩膜版具体包括:在每个所述掩膜片上制作与相应的所述图案相同的蒸镀开口之后,采用化学刻蚀工艺处理所述蒸镀开口的尖角区。
在本发明一些可能的实施例中,所述采用化学刻蚀工艺处理所述蒸镀开口的尖角区具体包括:采用光刻胶将所述掩膜片上距离所述尖角区的边沿5~10mm以上的区域均覆盖;采用刻蚀药液腐蚀所述掩膜片上未被光刻胶附着的区域,得到尖角区的厚度为100μm的掩膜版,以使掩膜版不会出现下垂问题,同时降低采用该掩膜版蒸镀后得到的功能膜层在尖角区的阴影问题。
第三方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版组件来制作显示屏中功能膜层的工艺方法,包括以下步骤:采用掩膜版组件中多个掩膜版在基板上分别进行真空蒸镀,以形成显示屏的功能膜层,与上述掩膜版组件的效果相同。
在本发明一些可能的实施例中,所述真空蒸镀的操作具体包括:将所述掩膜版与所述基板上的对准标记对准;将所述掩膜版与所述基板贴合后进行真空蒸镀,保证采用多个掩膜版进行拼接蒸镀后得到的异形屏中功能膜层的精度较高。
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