[发明专利]图像传感器及其形成方法、屏下指纹识别装置、电子设备

权利要求书

1.一种图像传感器，其特征在于，包括：

第一基底，具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内形成有若干传感单元组成的像素阵列，所述第二表面内形成有若干微透镜组成的微透镜阵列；

第二基底，所述第二基底包括金属互连层；

所述第一基底的第一表面键合于所述第二基底的金属互连层表面；

所述第一基底的第二表面为图形化的微透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，所述第一基底为半导体衬底；所述微透镜阵列由刻蚀所述半导体衬底而形成。

3.根据权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，每个微透镜对应一个或多个传感单元。

4.根据权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，所述第一基底的厚度为3μm～10μm。

5.根据权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，还包括：覆盖于所述微透镜阵列表面的吸光层，所述吸光层的厚度为

6.根据权利要求5所述的图像传感器，其特征在于，所述吸光层具有粗糙表面。

7.根据权利要求5所述的图像传感器，其特征在于，所述吸光层的材料包括氧化硅、氮氧化硅或者氮化硅中的至少一种。

8.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括：

提供第一基底，所述第一基底包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内形成有若干传感单元组成的像素阵列；

提供第二基底，所述第二基底包括金属互连层；

将所述第一基底的第一表面键合于所述第二基底的金属互连层表面；

在所述第一基底的第二表面形成微透镜阵列。

9.根据权利要求8所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述第一基底为半导体衬底；对所述第一基底的第二表面进行刻蚀，形成所述微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干阵列排布的微透镜。

10.根据权利要求8所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述微透镜阵列之前，对所述第一基底的第二表面进行减薄处理，使得减薄后的第一基底厚度为3μm～10μm。

11.根据权利要求8所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，还包括：在所述微透镜阵列表面形成吸光层，所述吸光层的厚度为

12.根据权利要求11所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述吸光层的材料包括氧化硅、氮氧化硅或者氮化硅中的至少一种。

13.根据权利要求11所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，还包括：对所述吸光层表面进行粗糙化处理。

14.一种屏下指纹识别装置，其特征在于，包括：如权利要求1至7中任一项所述的图像传感器。

15.一种电子设备，其特征在于，包括：

屏幕，具有一指纹识别区域；

如权利要求14所述的屏下指纹识别装置，设置于所述屏幕的指纹识识别区域下方。

16.根据权利要求15所述的电子设备，其特征在于，还包括：指纹识别光源，用于发出指纹检测光，所述指纹检测光至少包括红外光。