[发明专利]图像传感器及其形成方法、屏下指纹识别装置、电子设备

说明书

本发明涉及一种图像传感器及其形成方法、屏下指纹识别装置以及电子设备，所述图像传感器包括：第一基底，具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内形成有若干传感单元组成的像素阵列，所述第二表面内形成有若干微透镜组成的微透镜阵列；第二基底，所述第二基底包括金属互连层；所述第一基底的第一表面键合于所述第二基底的金属互连层表面；所述第一基底的第二表面为图形化的微透镜结构。上述图像传感器的图像传感能力提高。

技术领域

本发明涉及传感技术领域，尤其涉及一种图像传感器及其形成方法、屏下指纹识别装置、电子设备。

背景技术

随着手机行业的高速发展，指纹识别越来越受到人们的重视，屏下指纹识别技术的实用化已成为大众所需。

光学屏下指纹识别技术是通过光学指纹模组采集光源发出的光线在手指发生反射后透过屏幕的反射光，由于反射光中携带手指表面的指纹信息，从而实现屏下指纹识别。

现有技术中的屏下指纹识别装置，包括一图像传感芯片，所述图像传感芯片通常采用前面照度(FSI)技术，图像传感芯片的表层需要设置微透镜，对入射光进行聚焦，入射光通过微透镜聚焦后，再透过像素阵列表面的金属堆叠层进入，照射到像素阵列上。

现有的屏下指纹识别装置，通常采用可见光作为检测光源，在一些特殊的应用场景下，例如在需要佩戴透明手套的情况下，现有的屏下指纹装置，无法进行有效的指纹识别。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种屏下指纹识别装置，可以提高产品良率，降低成本。

为了解决上述问题，本发明提供了一种图像传感器，包括：第一基底，具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内形成有若干传感单元组成的像素阵列，所述第二表面内形成有若干微透镜组成的微透镜阵列；第二基底，所述第二基底包括金属互连层；所述第一基底的第一表面键合于所述第二基底的金属互连层表面；所述第一基底的第二表面为图形化的微透镜阵列。

可选的，所述第一基底为半导体衬底；所述微透镜阵列由刻蚀所述半导体衬底而形成。

可选的，每个微透镜对应一个或多个传感单元。

可选的，所述第一基底的厚度为3μm～10μm。

可选的，还包括：覆盖于所述微透镜阵列表面的吸光层；所述吸光层的厚度为

可选的，所述吸光层具有粗糙表面。

可选的，所述吸光层的材料包括氧化硅、氮氧化硅或者氮化硅中的至少一种。

本发明的技术方案还提供一种图像传感器的形成方法，包括：提供第一基底，所述第一基底包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内形成有若干传感单元组成的像素阵列；提供第二基底，所述第二基底包括金属互连层；将所述第一基底的第一表面键合于所述第二基底的金属互连层表面；在所述第一基底的第二表面形成微透镜阵列。

可选的，所述第一基底为半导体衬底；对所述第一基底的第二表面进行刻蚀，形成所述微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干阵列排布的微透镜。

可选的，每个微透镜对应一个或多个传感单元。

可选的，还包括：在形成所述微透镜阵列之前，对所述第一基底的第二表面进行减薄处理，使得减薄后的第一基底厚度为3μm～10μm。

可选的，还包括：在所述微透镜阵列表面形成吸光层；所述吸光层的厚度为

可选的，所述吸光层的材料包括氧化硅、氮氧化硅或者氮化硅中的至少一种。

可选的，采用原子层沉积工艺、化学气相沉积工艺形成所述吸光层。

可选的，还包括：对所述吸光层表面进行粗糙化处理。