[发明专利]一种基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法有效
申请号: | 202010238063.6 | 申请日: | 2020-03-30 |
公开(公告)号: | CN111290059B | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 赵芬霞;刘宏明 | 申请(专利权)人: | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;C23C14/48;C23C14/58 |
代理公司: | 深圳国联专利代理事务所(特殊普通合伙) 44465 | 代理人: | 王天兴 |
地址: | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 cvd 钻石 相干 光源 装置 及其 制造 方法 | ||
本发明涉及光电子技术领域,且公开了一种基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法,包括以下装置:CVD钻石、透射电子显微镜、计算机、单色激光器、液氦制冷装置和透镜组,所述CVD钻石的表面经过光刻的处理,所述CVD钻石的表面经过特殊加工处理,且所述CVD钻石的表面分布有间距10微米,直径100纳米的半球结构,所述单色激光器的型号为400‑532纳米型单色激光器,所述透射电子显微镜的型号为TEM型透射电子显微镜;包括以下步骤:步骤一:使用所述TEM型号的透射电子显微镜在所述CVD钻石表面的半球内注入浓度1ppb的氮原子;步骤二:对所述CVD钻石进行一千摄氏度的退火。该基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法,便于675纳米相干光源的制造。
技术领域
本发明涉及光电子技术领域,具体为一种基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法。
背景技术
在光学上,相干光是指“在时间或空间的任意点上,特别是在垂直于光的传播方向的平面上的一个区域内,或在空间的一个特定点的所有时间里,光的所有参数都可以预测并相关的光”。通俗一些地说:“这种光波上各点之间具有固定相位关系的特性”。即所有的光都平行于同一传播轴,形成极细、高度聚焦的光束,只有这种具有相干性的光,才能用来传送信息。激光器(Laser)的辐射可以产生相干性很好的相干光。
传统获得相干光的方法有:(1)波阵面分割法,将同一光源上同一点或极小区域(可视为点光源)发出的一束光分成两束,让它们经过不同的传播路径后,再使它们相遇,这时,这一对由同一光束分出来的光的频率和振动方向相同,在相遇点的相位差也是恒定的,因而是相干光。如,杨氏双缝干涉实验。(2)振幅分割法,一束光线经过介质薄膜的反射与折射,形成的两束光线产生干涉的方法。如,薄膜干涉。(3)采用激光光源,激光光源的频率,位相,振动方向,传播方向都相同。
但是传统的方法操作不便,对于装置需求高,且对于常用的675纳米相干光制造时就更加不便了,为此,我们提出一种基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种基于CVD钻石的相干光源装置及其制造方法,具备便于675纳米相干光的优点,解决了现有相干光制造方法操作不便,对于装置需求高,且对于常用的675纳米相干光制造时就更加不便的问题。
(二)技术方案
为实现具备便于675纳米相干光的目的,本发明提供如下技术方案:一种基于CVD钻石的相干光源装置,包括以下装置:
CVD钻石、透射电子显微镜、计算机、单色激光器、液氦制冷装置和透镜组,所述CVD钻石的表面经过光刻的处理,所述CVD钻石的表面经过特殊加工处理,且所述CVD钻石的表面分布有间距10微米,直径100纳米的半球结构,所述单色激光器的型号为400-532纳米型单色激光器,所述透射电子显微镜的型号为TEM型透射电子显微镜。
一种基于CVD钻石的相干光制造方法,包括以下步骤:
步骤一:使用所述TEM型号的透射电子显微镜在所述CVD钻石表面的半球内注入浓度1ppb的氮原子;
步骤二:对所述CVD钻石进行一千摄氏度的退火,使之形成NV色心;
步骤三:使用所述单色激光器和透镜组,将激光聚焦于所述CVD钻石表面任意一个半球,对激光荧光信号的时间进行收集,对收集的激光荧光信号的时间进行记录,整理收集到的激光荧光信号的时间,按时间计算收集到的荧光信号的时间,使用计算机将收集到的荧光信号的时间制成曲线,并计算出收集到的荧光信号时间曲线的自相干函数,如果满足单色心特征,则可以确定该半球内只有单个NV色心,如果不满足单色心特征,则可以确定该半球内至少形成两个以上NV色心;
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