[发明专利]一种用于增强运算放大器压摆率的电路有效

专利信息
申请号: 202010243280.4 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN111262532B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 张俊;郭朝亮 申请(专利权)人: 上海类比半导体技术有限公司
主分类号: H03F1/34 分类号: H03F1/34;H03F1/56;H03F1/30
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 吴珊;成春荣
地址: 200135 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 增强 运算放大器 压摆率 电路
【说明书】:

本申请公开了一种用于增强运算放大器压摆率的电路,所述电路包括信号控制电路和电流产生电路,所述电流产生电路生成第一、第二和第三辅助电流,所述第一辅助电流设置在运算放大器的电源端与同相输出端之间,所述第二辅助电流设置在所述运算放大器的同相输出端与地端之间,所述第三辅助电流设置在所述运算放大器的所述电源端与反相输出端之间;通过所述信号控制电路控制所述第一、第二和第三辅助电流的导通和关断。

技术领域

发明一般涉及电子技术领域,特别的涉及一种用于增强运算放大器压摆率的电路。

背景技术

随着电子技术的飞速发展,运算放大电路也得到广泛的应用。对于负反馈运放需要有大的压摆率以便在输入信号发生短时大的跳变时输出信号能够很快变化到接近稳定值,这就要求运放有大的压摆率,所以很多高性能的负反馈运放都会涉及压摆率增强电路,同时,为了降低功耗和面积成本,要求压摆率增强电路要求结构尽可能简单并且当运放工作在小信号模式时能够关断。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于增强运算放大器压摆率的电路。

为了解决上述问题,本申请公开了一种用于增强运算放大器压摆率的电路,所述电路包括信号控制电路和电流产生电路,所述电流产生电路生成第一、第二和第三辅助电流,所述第一辅助电流设置在运算放大器的电源端与同相输出端之间,所述第二辅助电流设置在所述运算放大器的同相输出端与地端之间,所述第三辅助电流设置在所述运算放大器的所述电源端与反相输出端之间;通过所述信号控制电路控制所述第一、第二和第三辅助电流的导通和关断。

在一优选例中,所述信号控制电路连接所述运算放大器的反相和同相输入端,对所述反相和同相输入端的电压信号进行放大并整形输出数字控制信号,所述数字控制信号控制所述第一、第二和第三辅助电流的导通和关断。

在一优选例中,所述信号控制电路包括:第一至第八NMOS晶体管、第一至第十二PMOS晶体管、第一和第二反相器及第一至第三电阻;

所述第一PMOS晶体管的栅极和漏极与所述第二PMOS晶体管的栅极相连并连接第一参考电流,所述第一、第二、第五至第八及第十一至第十二PMOS晶体管的源极连接电源端;

所述第二PMOS晶体管的漏极连接所述第三和第四PMOS晶体管的源极相连;

所述第三PMOS晶体管的栅极连接所述运算放大器的反相输入端,所述第三PMOS晶体管的漏极连接所述第一NMOS晶体管的漏极、所述第三NMOS晶体管的源极及所述第四NMOS晶体管的栅极;

所述第四PMOS晶体管的栅极连接所述运算放大器的同相输入端,所述第四PMOS晶体管的漏极连接所述第二NMOS晶体管的漏极、所述第四NMOS晶体管的源极及所述第三NMOS晶体管的栅极;

所述第一NMOS晶体管的漏极与所述第二NMOS晶体管的漏极之间依次连接所述第一至第三电阻,所述第一NMOS晶体管的栅极连接于所述第一和第二电阻之间的节点,所述第二NMOS晶体管的栅极连接于所述第二和第三电阻之间的节点;

所述第三NMOS晶体管的漏极连接所述第五PMOS晶体管的栅极与所述第七PMOS晶体管的栅极和漏极;

所述第四PMOS晶体管的漏极连接所述第八PMOS晶体管的栅极与所述第六PMOS晶体管的栅极和漏极;

所述第五PMOS晶体管的漏极连接所述第五NMOS晶体管的漏极、所述第六NMOS晶体管的栅极及所述第一反相器的输入端;

所述第六PMOS晶体管的漏极连接所述第六NMOS晶体管的漏极、所述第五NMOS晶体管的栅极及所述第二反相器的输入端;

所述第一反相器的输出端连接所述第九PMOS晶体管的栅极和所述第七NMOS晶体管的栅极;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海类比半导体技术有限公司,未经上海类比半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010243280.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top