[发明专利]平弯配套双银镀膜玻璃及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010272823.5 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN111302652A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 熊云;崔平生;黄颖;阮军琪;李连发;王鹏飞 申请(专利权)人: 东莞南玻工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 张艳美;侯柏龙
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 配套 镀膜 玻璃 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种平弯配套双银镀膜玻璃,包括玻璃基片及设于玻璃基片表面的膜层结构,膜层结构自玻璃基片向外依次包括:第一电介质组合层、第一银层、第一阻挡保护层、第一晶床介质层、第二电介质组合层、SiOx层、第三电介质组合层、第二银层、第二阻挡保护层、第二晶床介质层及第四电介质组合层,SiOx层的厚度为1‑50nm。另,还提供了上述平弯配套双银镀膜玻璃的制备方法,采用真空磁控溅射镀膜技术,可实时监控产品颜色变化,保证产品弯部分和平部分的透过色及反射颜色的一致,同时提高产品光学性能和改善后续钢化成像工艺,大大提高生产效率,降低废品率,节省成本,该制备方法简单、成熟、适合工业化生产,可广泛推广应用。

技术领域

本发明涉及双银镀膜玻璃技术领域,具体涉及一种平弯配套双银镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

磁控溅射镀膜技术是目前工业镀膜生产中最主要的技术之一,磁控溅射具有膜层厚度均匀性,基板温度低、沉降速度快等一系列优点。以磁控溅射作为成膜技术生产的低辐射镀膜玻璃,具有表面辐射率低、红外反射率高、可见光透过率适中的特点,它既可满足建筑物良好的采光要求,又可有效地阻挡玻璃以辐射形式传递热量,具有很好的隔热性能,是在当前技术条件下实现门窗节能的最佳材质,广泛应用于大面积建筑玻璃镀膜行业。现有技术中的Low-E玻璃的生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层,包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分,Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前,双银是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,其性能远高于单银产品,略低于成本较高的三银产品,随着市场形势的变化,越来越多的客户追求颜色整体的一致性,尤其体现在弯玻璃上面。现有技术中,弯玻璃通常采用先镀后钢,平玻璃通常采用先钢后镀。因为加工工艺不同,造成弯部分和平部分的颜色差别比较大,并且在室外的反射颜色和透过色不一致,不够美观,难以被客户采纳。

因此,亟需提供一种平弯配套双银镀膜玻璃及其制备方法,以保证产品的弯玻璃部分和平玻璃部分的透过色及反射颜色的一致性。

申请内容

本发明的目的之一在于,提供一种平弯配套双银镀膜玻璃,实现弯玻璃部分和平玻璃部分的透过色及反射颜色的保持一致性。

本发明的另一目的在于,提供一种平弯配套双银镀膜玻璃的制备方法,改善用于弯玻璃先镀后钢以及平玻璃先钢后镀的镀膜工艺,实时监控产品的颜色变化,保证产品的弯玻璃部分和平玻璃部分的透过色及反射颜色的一致性。

为实现上述目的,本发明提供了一种平弯配套双银镀膜玻璃,包括玻璃基片及设于玻璃基片表面的膜层结构,膜层结构自玻璃基片向外依次包括:第一电介质组合层、第一银层、第一阻挡保护层、第一晶床介质层、第二电介质组合层、SiOx层、第三电介质组合层、第二银层、第二阻挡保护层、第二晶床介质层及第四电介质组合层,SiOx层的厚度为1-50nm。

较佳地,本发明的SiOx层为纳米级别的二氧化硅,x值的范围为1.5-2.5。

较佳地,本发明的第一电介质组合层自玻璃基片向外依次为:ZnO层Ⅰ、SiNx层Ⅰ和ZnO层Ⅱ,ZnO层Ⅰ和ZnO层Ⅱ的厚度小于SiNx层Ⅰ的厚度,优选地,ZnO层Ⅰ和ZnO层Ⅱ的厚度均为4-8nm,SiNx层Ⅰ厚度为30-35nm。第一电介质组合层的ZnO层Ⅱ与第一银层的黏附性好,具有协同作用,氧化锌层与金属银层紧密黏附,有效防止金属银层被氧化,从而保持金属银层对红外线和紫外线的阻挡效果,延长镀膜玻璃的使用寿命。

较佳地,本发明的第一银层的厚度小于第二银层的厚度,优选地,第一银层的厚度为3-6nm,第二银层的厚度为20-25nm。

较佳地,本发明的第一阻挡保护层为NiCr层Ⅰ,第二阻挡保护层为NiCr层Ⅱ,第一阻挡保护层厚度为3-6nm,第二阻挡保护层厚度为4-8nm。镍铬合金具有抗酸碱耐腐蚀性能,将其镀制于银层表面,可以进一步保护银层不被氧化。

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