[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法

权利要求书

1.一种多带电粒子束描绘装置，具备：

成形孔径阵列部件，形成有多个开口，通过带电粒子束在所述多个开口通过而形成多束；

消隐孔径阵列部件，配置有切换所述多束中的各个对应的束的接通/断开的多个消隐器；

载置台，载置被照射所述多束的基板；

测定部，基于所述多束的各束的束电流或者从设置于所述载置台的反射标记反射的带电粒子的强度，测定所述多束的第1束形状；

调整部，基于所述测定部测定出的所述第1束形状，计算所述多束的缩小率及旋转角的调整量；

校正映射制作部，根据基于所述调整量的束形状与所述第1束形状的差量，求出所述多束的各束的位置偏移量，制作规定了所述位置偏移量的第1校正映射；

描绘数据处理部，对定义了要描绘的图形图案的信息的描绘数据进行变换，生成定义了所述多束的各束的照射量的发射数据，基于所述第1校正映射，校正在所述发射数据中定义的各束的照射量；以及

控制部，基于所述调整量，控制所述多束的缩小率及旋转角。

2.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，

改变所述调整量的条件而制作多个第1校正映射，

选择与所述多个第1校正映射中的、照射量的校正量最小的第1校正映射对应的调整量的条件。

3.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，

基于所述调整量，调整所述多束的缩小率及旋转角，根据基于所述第1校正映射来校正多束的各束的照射量后在所述基板上描绘的评价图案的描绘结果，测定多束的第2束形状，所述调整部基于该第2束形状重新调整所述多束的缩小率及旋转角，

所述校正映射制作部，使用所述第2束形状与基于重新调整后的缩小率及旋转角的束形状的差量，求出所述多束的各束的位置偏移量，将该位置偏移量与所述第1校正映射相加，制作第2校正映射，

所述描绘数据处理部，基于所述第2校正映射，校正在所述发射数据中定义的各束的照射量。

4.根据权利要求2所述的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，

基于所述调整量，调整所述多束的缩小率及旋转角，根据基于所述第1校正映射来校正多束的各束的照射量后在所述基板上描绘的评价图案的描绘结果，测定多束的第2束形状，所述调整部基于该第2束形状重新调整所述多束的缩小率及旋转角，

所述校正映射制作部，使用所述第2束形状与基于重新调整后的缩小率及旋转角的束形状的差量，求出所述多束的各束的位置偏移量，将该位置偏移量与所述第1校正映射相加，制作第2校正映射，

所述描绘数据处理部，基于所述第2校正映射，校正在所述发射数据中定义的各束的照射量。

5.根据权利要求3所述的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，

改变缩小率及旋转角的重新调整量的条件而制作多个第2校正映射，

选择与所述多个第2校正映射中的、由所述描绘数据处理部校正的照射量的校正量最小的第2校正映射对应的重新调整量的条件。

6.根据权利要求4所述的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，

改变缩小率及旋转角的重新调整量的条件而制作多个第2校正映射，

选择与所述多个第2校正映射中的、由所述描绘数据处理部校正的照射量的校正量最小的第2校正映射对应的重新调整量的条件。