[发明专利]掩膜板和新型产线在审
申请号: | 202010274726.X | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN111427231A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 黄灿军 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 新型 | ||
1.一种掩膜板,其特征在于,包括第一掩膜板和第二掩膜板,所述第一掩膜板包括第一掩膜区域和第一拼接区域,所述第一拼接区域和所述第一掩膜区域连接,所述第二掩膜板包括第二掩膜区域和第三掩膜区域以及第二拼接区域,所述第三掩膜区域和所述第二拼接区域连接,其中,所述第一拼接区域包括多个挖空部,所述第一拼接区域的挖空部对应所述第二拼接区域的遮挡部,所述第一拼接区域的遮挡部对应所述第二拼接区域的挖空部。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一掩膜区域包括第一区域,所述第二掩膜区域包括第二区域,所述第一区域的面积大于所述第二区域的面积。
3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,沿拼接的方向,所述第二掩膜区域的长度小于所述第三掩膜区域的长度。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述第二掩膜区域在第三掩膜区域内的投影与第三掩膜区域重合。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,沿拼接的方向,所述第三掩膜区域的长度与所述第一掩膜区域的长度相等。
6.一种新型产线,其特征在于,包括:
投料口,所述投料口用于投入待曝光显影的物料;
清洗机;
涂布机;
第一烘烤机;
第一曝光设备,包括第一掩膜板和第一曝光机,所述第一曝光机通过所述第一掩膜板对所述物料进行第一次曝光;
传送带,用于连接所述第一曝光机和所述第二曝光机;
第二曝光设备,包括第二掩膜板和第二曝光机,所述第二曝光机通过所述第二掩膜板对所述物料进行第二次曝光;
显影机;
第二烘烤机;
其中,所述物料通过投料口进入所述新型产线,依次经过所述清洗机、所述涂布机、所述第一烘烤机、、所述第一传送带、所述第一曝光机、所述连接传送带、所述第二传送带、所述第二曝光机、所述显影机以及所述第二烘烤机,完成对所述物料的曝光显影过程。
7.根据权利要求6所述的新型产线,其特征在于,所述传送带包括第一传送带和第二传送带以及连接所述第一传送带和所述第二传送带的连接传送带。
8.根据权利要求7所述的新型产线,其特征在于,所述连接传送带的材料与所述第一传送带相同。
9.根据权利要求7所述的新型产线,其特征在于,所述连接传送带的宽度与所述第一传送带相同。
10.根据权利要求6所述的新型产线,其特征在于,所述第一掩膜板包括第一掩膜区域和第一拼接区域,所述第一拼接区域和所述第一掩膜区域连接,所述第二掩膜板包括第二掩膜区域和第三掩膜区域以及第二拼接区域,所述第三掩膜区域和所述第二拼接区域连接,其中,所述第一拼接区域包括多个挖空部域,所述第一拼接区域挖空部对应所述第二拼接区域的遮挡部,所述第一拼接区域的遮挡部对应所述第二拼接区域的挖空部。
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