[发明专利]掩膜板和新型产线

说明书

本发明提供一种掩膜板和新型产线，新型产线包括第一曝光设备、传送带以及第二曝光设备，第一曝光设备包括第一掩膜板和第一曝光机，第二曝光设备包括第二掩膜板和第二曝光机；通过对同一基板用不同的掩膜板分部曝光，缓解了现有黄光线生产的彩膜基板存在暗纹多的技术问题。

技术领域

本发明涉及彩膜曝光领域，尤其涉及一种掩膜板和新型产线。

背景技术

现有的黄光线，通过使用一张掩膜板进行马赛克拼接曝光，存在投料间隔长、产生的曝光次数多的问题，现有的黄光线生产的彩膜基板存在暗纹多的技术问题。

发明内容

本发明提供一种掩膜板和新型产线，用于解决现有黄光线生产的彩膜基板存在暗纹多的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种掩膜板,其包括第一掩膜板和第二掩膜板，所述第一掩膜板包括第一掩膜区域和第一拼接区域，所述第一拼接区域和所述第一掩膜区域连接，所述第二掩膜板包括第二掩膜区域和第三掩膜区域以及第二拼接区域，所述第三掩膜区域和所述第二拼接区域连接，其中，所述第一拼接区域包括多个挖空部，所述第一拼接区域的挖空部对应所述第二拼接区域的遮挡部，所述第一拼接区域的遮挡部对应所述第二拼接区域的挖空部。

在本发明提供的新型产线中，所述第一掩膜区域包括第一区域，所述第二掩膜区域包括第二区域，所述第一区域的面积大于所述第二区域的面积。

在本发明提供的新型产线中，沿拼接的方向，所述第二掩膜区域的长度小于所述第三掩膜区域的长度。

在本发明提供的新型产线中，所述第二掩膜区域在第三掩膜区域内的投影与第三掩膜区域重合。

在本发明提供的新型产线中，沿拼接的方向，所述第三掩膜区域的长度与所述第一掩膜区域的长度相等。

本发明实施例提供一种新型产线,其包括：

投料口，所述投料口用于投入待曝光显影的物料；

清洗机；

涂布机；

第一烘烤机；

第一曝光设备，包括第一掩膜板和第一曝光机，所述第一曝光机通过所述第一掩膜板对所述物料进行第一次曝光；

传送带，用于连接所述第一曝光机和所述第二曝光机；

第二曝光设备，包括第二掩膜板和第二曝光机，所述第二曝光机通过所述第二掩膜板对所述物料进行第二次曝光；

显影机；

第二烘烤机；

其中，所述物料通过投料口进入所述新型产线，依次经过所述清洗机、所述涂布机、所述第一烘烤机、、所述第一传送带、所述第一曝光机、所述连接传送带、所述第二传送带、所述第二曝光机、所述显影机以及所述第二烘烤机，完成对所述物料的曝光显影过程。

在本发明提供的新型产线中，所述传送带包括第一传送带和第二传送带以及连接所述第一传送带和所述第二传送带的连接传送带。

在本发明提供的新型产线中，所述连接传送带的材料与所述第一传送带相同。

在本发明提供的新型产线中，所述连接传送带的宽度与所述第一传送带相同。

在本发明提供的新型产线中，所述第一掩膜板包括第一掩膜区域和第一拼接区域，所述第一拼接区域和所述第一掩膜区域连接，所述第二掩膜板包括第二掩膜区域和第三掩膜区域以及第二拼接区域，所述第三掩膜区域和所述第二拼接区域连接，其中，所述第一拼接区域包括多个挖空部域，所述第一拼接区域挖空部对应所述第二拼接区域的遮挡部，所述第一拼接区域的遮挡部对应所述第二拼接区域的挖空部。