[发明专利]集成电路在审

专利信息
申请号: 202010277871.3 申请日: 2020-04-10
公开(公告)号: CN112447712A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 林义雄;邱奕勋;张尚文;蔡庆威;黄禹轩;程冠伦;王志豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/78;H01L29/10
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 集成电路
【权利要求书】:

1.一种集成电路,包括:

一半导体基板;

至少一源极区,其包括一第一掺杂半导体材料;

至少一漏极区,其包括一第二掺杂半导体材料;

至少一栅极,形成于该至少一源极区及该至少一漏极区之间;以及

一纳米片,形成于该半导体基板及该至少一栅极之间,且配置为该至少一栅极的一通道,

其中,该纳米片具有一第一区域,其具有一第一宽度,以及一第二区域,其具有一第二宽度,其中该第一宽度小于该第二宽度。

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