[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底；

位于所述衬底上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源极、及漏极；

位于所述薄膜晶体管上的平坦层；

贯穿所述平坦层的通孔；

沉积在所述平坦层上和所述通孔内侧的阳极层，所述阳极层在所述通孔处与所述源极电连接；

沉积在所述通孔内和阳极层外侧的填充层；

位于所述阳极层上的像素定义层，所述像素定义层界定出包括所述填充层的开口部。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述填充层为纳米银材料。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述填充层的上表面与所述阳极层水平。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括沉积在所述开口部的发光功能层。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括与所述源极电连接的源极层,且由所述源极层连接所述阳极层,所述平坦层覆盖所述薄膜晶体管与所述源极层。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

位于所述衬底上的遮光层；

覆盖于所述衬底和所述遮光层上的缓冲层；

位于所述缓冲层上的有源层；

位于所述有源层上的栅极绝缘层；

位于所述栅极绝缘层上的栅极层；

覆盖于所述有源层、栅极绝缘层、栅极层、及缓冲层的中间层。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源极、及漏极；

在所述薄膜晶体管上形成平坦层；

形成贯穿所述平坦层的通孔；

在所述平坦层上和所述通孔内侧沉积阳极层，所述阳极层在所述通孔处与所述源极电连接；

在所述通孔内和阳极层外侧沉积填充层；

在所述阳极层上形成像素定义层，所述像素定义层界定出包括所述填充层的开口部。

8.如权利要求7所述阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述通孔内和阳极层外侧沉积填充层，包括：

采用纳米银在所述阳极层外侧对所述通孔进行喷墨打印。

9.如权利要求7所述阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法还包括：

在所述开口部喷墨打印发光功能材料，以形成发光功能层。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至6任一项所述的阵列基板。