[发明专利]一种光学增亮贴合基膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学增亮贴合基膜，其特征在于，包括基材层以及增光层，所述增光层涂覆于所述基材层的外表面，所述增光层的原料成分组成按重量份计为：30～50份聚乙烯醇树脂、20～35份有机溶剂、12～23份增塑剂、0.3～3份流平剂、0.01～1份表面活性剂、0.2～0.5份消泡剂以及0.5～2.5份固化剂，所述基材层为PET基材层。

2.根据权利要求1所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述有机溶剂选自为苯乙烯、全氯乙烯、乙烯乙二醇醚中的一种或两种以上。

3.根据权利要求2所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述增塑剂选自为乙二醇、丙三醇、三乙二醇、聚酯醇、聚乙烯醇、三羟甲基丙醇、邻苯二甲酸二甲酯中的一种或两种以上。

4.根据权利要求3所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述流平剂选自为环氧乙烷、环氧丙烷、丙烯酸树脂、脲醛树脂中的一种或者两种以上。

5.根据权利要求4所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述表面活性剂选自为阴离子表面活性剂或者非离子表面活性剂。

6.根据权利要求5所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述消泡剂选自为聚硅氧烷和有机醇类化合物中的一种或者两种。

7.根据权利要求6所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述固化剂选自为环氧树脂和丙烯酸酯类化合物中的一种或者两种。

8.根据权利要求7所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述增光层包括第一增光层以及第二增光层，所述第一增光层涂覆于所述基材层的上方，所述第二增光层涂覆于所述基材层的下方。

9.根据权利要求8所述的光学增亮贴合基膜，其特征在于，所述光学增亮贴合基膜总厚度在0.1～0.15㎜，所述基材层厚度在0.05～0.075mm，所述第一增光层以及所述第二增光层的厚度相等。

10.一种光学增亮贴合基膜的制备方法，包括如下生产步骤：

S100增光层的制备：将相应重量份的聚乙烯醇树脂、有机溶剂、增塑剂、流平剂、表面活性剂、消泡剂以及固化剂进行搅拌，搅拌30～40min形成均匀地混合液，随后在85～90℃的烘箱内进行固化，烘干时间为2～3min，固化度为75～80％，得到所述增光层；

S200干燥处理：将制备好的所述增光层以及所述基材层的原料在130℃下进行干燥1.5h；

S300熔融挤出：将干燥后的所述增光层送入一台双螺旋杆挤出机内进行熔融，同时将干燥后的所述基材层送入另一台双螺旋杆挤出机内进行熔融，熔融后所述增光层以及熔融后的所述基材层进入共挤模块，随后在口模内通过三层分配器后从模头挤出厚片，模头温度为268～275℃；

S400低温冷却：将所述步骤S300中的厚片经过急冷辊两面冷却形成铸片，将铸片冷却到45～50℃；

S500红外加热拉伸：将所述步骤S400中冷却的铸片送入纵向机内，经红外线加热到130～140℃，进行无辊式拉伸，拉伸好后并在横拉机上进行热定型，热定型温度为80～120℃，得到基膜；

S600制成成品：将所述步骤S500中所得到的基膜经修边后进入牵引机，所述基膜经牵引辊冷却展平，将冷却展平后的基膜送入在线分切机内进行分切、卷取、制成成品。