[发明专利]一种碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮、制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202010289956.3 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN111331525B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 赵延军;王礼华;张高亮;钱灌文;左冬华 申请(专利权)人: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
主分类号: B24D3/10 分类号: B24D3/10;B24D3/34;B24D18/00;C22C26/00;C22C32/00
代理公司: 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 代理人: 王红培;郑园
地址: 450001 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 碳化硅 晶体 减薄用 复合 结合 砂轮 制备 方法 应用
【说明书】:

发明提供了一种碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮、制备方法及应用,由以下重量百分比的原料制成:金刚石磨料15‑45%、预合金粉15‑60%、聚四氟乙烯20‑45%、氧化铈3‑15%、润湿剂0.5‑6%。本发明中所用合金体系为Ga‑Cu‑Sn,在合金体系中加入镓低熔点元素,合金粉成型温度低,解决了树脂金属结合剂异相成型的难题。镓金属的加入,发生共晶反应生成高富镓高脆性相β、δ,实现了传统合金体系由硬韧向高脆性的转变,提高结合剂体系自锐性。复合结合剂兼具二者优势,金属结合剂形成骨架提高强度和硬度,树脂粉的存在增加了磨具的弹性,降低磨削过程中的抗冲击性,提升碳化硅片的表面质量。

技术领域

本发明涉及超硬磨料磨具领域,具体涉及一种碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮、制备方法及应用。

背景技术

以碳化硅为代表的宽禁带半导体材料,有更高的饱和漂移速度和更高的临界击穿电压等突出优点,适合大功率、高温、高频和抗辐照应用场合。世界各国对SiC的研究非常重视,纷纷投入大量的人力物力积极发展,美国、欧洲、日本等不仅从国家层面上制定了相应的研究规划,而且一些国际电子业巨头也都投入巨资发展碳化硅半导体器件。

区别于第一代半导体硅材料硬度低,脆性大的特性,碳化硅晶体材料,莫氏硬度达到9.5,硬度仅次于金刚石,强度较高,加工难度比较大。常用的树脂结合剂砂轮,由于树脂材料强度低,磨削时砂轮容易崩缺,无法去除工件余量;常用金属结合剂砂轮,由于金属应韧,加工碳化硅时结合剂无法自消耗,持续出刃效果差,不具有自锐性,磨削时容易产生砂轮堵塞,工件烧伤、裂片等问题,无法获得优质的加工质量。随着磨削加工技术的发展,结合剂正向着复合化的方向发展。

发明内容

本发明提出了一种碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮、制备方法及应用,该砂轮具有树脂结合剂和金属结合剂的优点,可以持续进刀保持锋利性,可以实现碳化硅晶体的减薄加工,提高加工效率,获得高表面质量的碳化硅晶体。

实现本发明的技术方案是:

一种碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮,由以下重量百分比的原料制成:金刚石磨料15-45%、预合金粉15-60%、聚四氟乙烯20-45%、氧化铈3-15%、润湿剂0.5-6%。

所述的树脂材料聚四氟乙烯具有自润滑作用,在磨削时减少磨擦磨损减小磨削热。所述的聚四氟乙烯为热塑性树脂,可以减小磨削震动作用,提高磨削表面质量。

所述的预合金粉中A镓金属必不可少的,其与铜和锡金属发生共晶反应,生成低熔点脆性预合金粉。

所述结合剂中的氧化铈,在磨削过程中对工件起到抛光作用,可以提高工件表面质量。

所述砂轮的基体为铜基体、钢基体中的一种,且基体有特殊结构设计。

所述的基体结构,有梯形槽,且有24个均匀分布的水孔,有利于提高磨削液进入磨削面,提高磨削过程中冷却散热。

所述金刚石磨料的粒度为400#-2000#。

所述预合金粉由40-60%铜粉、18-35%锡粉和10-25%金属A几种金属制成,其中金属A由铋或银中的至少一种和镓组成,金属A中镓的含量质量分数为50%。

所述预合金粉的处理方法为:将铜粉、锡粉过200#筛五遍,加入金属A,然后将混合物放入行星式球磨机球磨机械混合和细化处理10-20h,即得混合粉;将混合粉热处理,热处理工艺为:以20℃/min的升温速度升至260-350℃保温2h,然后以5℃/min升至380-450℃保温5-20h,然后以10℃/min降温至25℃,即得预合金粉。

所述的碳化硅晶体减薄用复合结合剂砂轮的制备方法,步骤如下:

(1)将热处理后的预合金粉和氧化铈放入行星式混料机中球混2h,过200目标准筛3遍得到粘接剂;

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