[发明专利]光掩模盒及其耐磨件在审
申请号: | 202010291475.6 | 申请日: | 2020-04-14 |
公开(公告)号: | CN113433793A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 邱铭乾;盛剑平 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;H05F1/00;H01L21/673 |
代理公司: | 深圳市舜立知识产权代理事务所(普通合伙) 44335 | 代理人: | 侯艺 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光掩模盒 及其 耐磨 | ||
1.一种光掩模盒,其特征在于,包括:
一上盖体;
一盒体,透过至少一导位块与该上盖体配合,该盒体包括一直立空间;
复数卡槽,成对设于该直立空间上;
该卡槽设置有一耐磨组;
该耐磨组包括:
一第一耐磨件,设置于该卡槽的一端;以及
一第二耐磨件,设置于该卡槽的另一端。
2.如权利要求1所述的光掩模盒,其特征在于,该上盖体与该盒体为静电消散材质制成。
3.如权利要求1所述的光掩模盒,其特征在于,该盒体外更设置有一把手,成对设于该盒体外的对称位置。
4.如权利要求1所述的光掩模盒,其特征在于,该卡槽中央连接该第二耐磨件之处设置有一第三斜面。
5.如权利要求1所述的光掩模盒,其特征在于,该卡槽上端更设有至少一固定件,该至少一固定件相应配合设于该第一耐磨件上之至少一固定件孔将该第一耐磨件连接于该卡槽上。
6.如权利要求5所述的光掩模盒,其特征在于,每个该固定件具有一锥状部,该锥状部与每个该固定件孔配合。
7.如权利要求1所述的光掩模盒,其特征在于,该第一耐磨件透过至少一埋设件与该卡槽连接。
8.一种耐磨组,设置于一基板容器中设有的复数卡槽上,其特征在于,该耐磨组包括:
一第一耐磨件,设置于该卡槽的一端;以及
一第二耐磨件,设置于该卡槽的另一端。
9.如权利要求8所述的耐磨组,其特征在于,卡槽上端更设有至少一固定件,该至少一固定件相应配合设于该第一耐磨件上之至少一固定件孔将该第一耐磨件连接于该卡槽上。
10.如权利要求9所述的耐磨组,其特征在于,该固定件具有一锥状部,该锥状部与该固定件孔配合。
11.如权利要求8所述的耐磨组,其特征在于,该第一耐磨件透过至少一埋设件与该卡槽连接。
12.如权利要求8所述的耐磨组,其特征在于,该第一耐磨件更包括一第一斜面。
13.如权利要求8所述的耐磨组,其特征在于,该第二耐磨件更包括一第二斜面。
14.如权利要求8或13所述的耐磨组,其特征在于,该第二耐磨件更包括至少一卡榫部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于家登精密工业股份有限公司,未经家登精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010291475.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:可重复使用的口罩
- 下一篇:导光柱、发光装置及用以制造所述导光柱的方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备