[发明专利]一种掩膜板及其制备方法和采用其的蒸镀方法在审

专利信息
申请号: 202010294640.3 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN111394690A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 熊自阳;赖韦霖;鲍建东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;冯建基
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜板 及其 制备 方法 采用
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,包括框架和掩膜网,其特征在于,所述框架包括边框和连接所述边框的至少一个支架,所述支架将所述边框围设形成的区域分隔为至少两个张网区;所述掩膜网包括至少两个,各所述掩膜网分别对应张网于各所述张网区,且所述掩膜网的四周边缘均分别与围设形成所述张网区的所述框架固定连接。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述支架包括两个以上,所述支架为条状,所述支架沿第一方向平行等间隔排布,以将所述边框围设形成的区域分隔为多个面积相等的所述张网区。

3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述张网区与所述支架的沿所述第一方向的宽度相等。

4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述边框围设形成的区域形状包括矩形,所述第一方向为所述矩形一边的延伸方向,所述支架的长度方向垂直于所述第一方向;

所述张网区的形状和大小与所述支架的位于所述边框围设形成的区域内的部分的形状和大小相同。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜网的四周各边缘上均分别设置有一个第一对位标记,围设形成所述张网区的所述框架的各边上均分别设置有一个第二对位标记;

所述第一对位标记和所述第二对位标记位置相对应且重合。

6.一种如权利要求1-5任意一项所述的掩膜板的制备方法,其特征在于,包括:张网夹具分别夹持各掩膜网的四周边缘,将其张网于各张网区;

将所述掩膜网的四周边缘分别与围设形成所述张网区的框架固定连接。

7.一种采用如权利要求1-5任意一项所述的掩膜板的蒸镀方法,其特征在于,包括:将所述掩膜板与待镀基板进行对位,对位完成后进行一次蒸镀,完成所述待镀基板上部分区域的蒸镀;

对所述待镀基板或者所述掩膜板进行位置移动,将所述掩膜板与待镀基板进行再次对位,对位完成后进行再次蒸镀,循环执行该步骤直至完成所述待镀基板的蒸镀。

8.根据权利要求7所述的掩膜板的蒸镀方法,其特征在于,所述掩膜板为权利要求4所述的掩膜板,所述蒸镀方法包括:所述一次蒸镀完成后,所述掩膜板保持不动,将所述待镀基板沿第一方向平移一个掩膜网的宽度,使所述掩膜板上所述掩膜网与所述待镀基板上的未蒸镀区域相对应并对位,然后进行再次蒸镀,完成所述待镀基板的蒸镀。

9.根据权利要求7所述的掩膜板的蒸镀方法,其特征在于,所述掩膜板为权利要求4所述的掩膜板,所述蒸镀方法包括:所述一次蒸镀完成后,所述掩膜板保持不动,将所述待镀基板绕其中心旋转180°,使所述掩膜板上所述掩膜网与所述待镀基板上的未蒸镀区域相对应并对位,然后进行再次蒸镀,完成所述待镀基板的蒸镀。

10.根据权利要求7所述的掩膜板的蒸镀方法,其特征在于,所述掩膜板为权利要求4所述的掩膜板,所述蒸镀方法包括:所述一次蒸镀完成后,所述待镀基板保持不动,将所述掩膜板绕其中心旋转180°,使所述掩膜板上所述掩膜网与所述待镀基板上的未蒸镀区域相对应并对位,然后进行再次蒸镀,完成所述待镀基板的蒸镀。

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