[发明专利]显影设备

说明书

本申请公开了一种显影设备，包括与基板侧壁相抵接的至少一支撑块，支撑块包括由依次平滑连接的第一凹形曲面、尖端及第二凹形曲面构成的复合曲面及第一平面，尖端包括依次平滑连接的第一面、接触面及第二面；第一面与第一凹形曲面平滑连接，接触面用于接触基板的一侧壁，第一面与第二凹形曲面平滑连接；第一面及第二面任意位置上的切面在沿基板侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；在第一凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中，第一凹形曲面的曲率逐渐减小；在第二凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中，第二凹形曲面的曲率逐渐减小。本申请利用支撑块的复合曲面的平滑作用，使得显影液在流经支撑块时不因发生回流而导致过显影现象。

技术领域

本申请涉及显影技术领域，尤其涉及一种显影设备。

背景技术

在现有技术中，一种Puddle显影模式(涂布显影模式)的显影流程，在进入显影流程之前，进入显影设备的基板已经预先涂布了PR(光阻)并经过了曝光处理；所述显影流程包括：在显影室内，利用喷涂装置将显影液均匀喷洒到所述基板上，其中所述喷涂装置的显影液的流向与所述基板的运动方向相垂直；通过显影一定时间以后，将所述基板倾斜15°，使用喷淋装置的去离子水(DI Water)喷淋所述基板，以将所述基板上的显影液清除。其中，在显影液涂敷完后，将去离子水喷洒倾倒过程中，为了固定所述现有基板，在所述现有基板的一侧边缘上设置有一排圆形挡块。但是在去离子水喷洒倾倒的过程中，由于所述圆形挡块的阻挡作用，显影液在所述现有基板与所述圆形挡块的抵接处产生回流，由于显影液的前后流体在竖直方向的速度方向相反，显影液在所述圆形挡块的周围会发生停滞，易产生过显影现象(mura)。

因此，现需提供一种新的显影设备。

发明内容

本申请实施例提供一种显影设备，在去离子水喷淋基板以清洗显影液的过程中，通过多个支撑块固定一基板，在不降低所述支撑块的抗形变强度的前提下，利用所述支撑块的尖端、第一凹形曲面及第二凹形曲面的平滑作用，使得显影液在流经所述支撑块的尖端时不因发生回流而导致过显影现象。

本申请实施例提供一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括用于固定所述基板的至少一个支撑块；所述支撑块包括一第一平面，以及依次平滑连接的一第一凹形曲面、一尖端及一第二凹形曲面；所述尖端包括依次平滑连接的一第一面、一接触面及一第二面；其中，所述第一面与所述第一凹形曲面平滑连接，所述接触面用于接触所述基板的一侧壁，所述第二面与所述第二凹形曲面平滑连接；并且，所述第一面及所述第二面任意位置上的切面在沿所述基板的所述侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；在所述第一凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第一凹形曲面的曲率逐渐减小；以及，在所述第二凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第二凹形曲面的曲率逐渐减小。

在一些实施例中，所述尖端为弹性材料结构件。

在一些实施例中，所述尖端在自然状态下，所述尖端的所述接触面趋近于一直线；以及所述尖端发生弹性形变时，所述尖端的所述接触面趋近于一平面。

在一些实施例中，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条抛物线构成的凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条最速曲线构成的平滑凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的平滑凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面、所述尖端、所述第二凹形曲面及所述第一平面为一体式结构件；以及，所述尖端的所述第一面、所述接触面及所述第二面为一体式结构件。

在一些实施例中，所述尖端的所述第一面与所述尖端的所述第二面背向对称设置；所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面背向对称设置。