[发明专利]晶体管结构在审

专利信息
申请号: 202010306915.0 申请日: 2020-04-17
公开(公告)号: CN111834461A 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 卢超群;黄立平 申请(专利权)人: 钰创科技股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体管 结构
【权利要求书】:

1.一种晶体管结构,其特征在于包含:

一栅极,位于一硅表面上方;

一间隔层,位于所述硅表面上方,其中所述间隔层至少覆盖所述栅极的一侧壁;

一通道区,位于所述硅表面下方;

一第一凹槽;以及

一第一导电区,至少部分地形成于所述第一凹槽内;

其中位于所述晶体管结构旁的一相邻晶体管结构的一导电区是至少部分地形成于所述第一凹槽内。

2.如权利要求1所述的晶体管结构,其特征在于另包含:

一第二凹槽;以及

一第二导电区,至少部分地形成于所述第二凹槽内。

3.如权利要求2所述的晶体管结构,其特征在于:所述第一导电区具有沿着一第一延伸方向的一第一掺杂浓度分布,以及所述第二导电区具有沿着一第二延伸方向的一第二掺杂浓度分布,其中所述第一延伸方向和所述第二延伸方向平行于所述硅表面的法线方向,以及所述第一掺杂浓度分布和所述第二掺杂浓度分布并非对称。

4.如权利要求1所述的晶体管结构,其特征在于另包含:一第一绝缘层,形成于所述第一凹槽内且位于所述第一导电区下方。

5.如权利要求4所述的晶体管结构,其特征在于:所述第一导电区包含一第一上方部分、一第二上方部分、和一下方部分,所述第一上方部分和所述第二上方部分接触所述间隔层,以及所述下方部分接触所述通道区且位于所述第一绝缘层之上。

6.如权利要求5所述的晶体管结构,其特征在于另包含:一第二绝缘层,覆盖所述第一导电区。

7.如权利要求6所述的晶体管结构,其特征在于另包含:一接触区,至少部分地形成于所述第一凹槽内,其中所述第一导电区的所述第二上方部分接触所述接触区,以及所述第二绝缘层将所述第一导电区的所述第一上方部分和所述下方部分与所述接触区分开。

8.如权利要求1所述的晶体管结构,其特征在于:所述相邻晶体管结构的所述导电区与所述第一导电区电隔离。

9.如权利要求1所述的晶体管结构,其特征在于:所述通道区的至少一部分是位于所述栅极和所述间隔层下方,以及所述通道区的长度不小于所述栅极的长度与所述间隔层的长度的总和。

10.如权利要求1所述的晶体管结构,其特征在于:一高应力的介电层形成于所述第一导电区、所述间隔层、和所述栅极之上。

11.一种晶体管结构,其特征在于包含:

一栅极,位于一硅表面上方;

一间隔层,覆盖所述栅极的一侧壁;

一通道区,其中所述通道区的至少一部分是位于所述栅极和所述间隔层下方;以及

一第一导电区,形成于所述间隔层和一侧面绝缘层之间,其中所述第一导电区的一侧壁的部分被所述侧面绝缘层覆盖。

12.如权利要求11所述的晶体管结构,其特征在于:所述第一导电区是部分形成于一第一凹槽内,以及所述侧面绝缘层是部分形成于所述第一凹槽内。

13.如权利要求12所述的晶体管结构,其特征在于:一底部绝缘层形成于所述第一凹槽内,且所述第一导电区是位于所述底部绝缘层之上。

14.如权利要求13所述的晶体管结构,其特征在于:所述第一导电区包含一第一上方部分、一第二上方部分、和一下方部分,所述第一上方部分和所述第二上方部分接触所述间隔层,以及所述下方部分接触所述通道区且位于所述底部绝缘层之上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钰创科技股份有限公司,未经钰创科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010306915.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code