[发明专利]对准结构

说明书

本发明提供一种对准结构，该对准结构包括基板、对准部以及延伸部。对准部设置于基板上，延伸部设置于基板上，延伸部至少部分环绕对准部，并且与对准部间隔空隙。其中延伸部靠近对准部的一侧与对准部靠近延伸部的一侧彼此为共形。

技术领域

本发明涉及一种对准结构。

背景技术

对准结构(Alignment structure或Alignment key)在制程中，例如光刻(photolithography)对位，扮演着重要的角色，一般都是以直接镀金属或是蚀刻一个图形的方式来制作对准结构，但是，在经过一些制程后，将看不到此金属或图形，或是会因为对准结构与其周边结构之间的高度差导致对准结构周边光阻涂布较薄，涂布不均的状况引起色差，使得对准结构的识别失准，进而造成良率不佳的问题。

发明内容

本发明是针对一种对准结构，利用延伸部来避免光阻涂布不均的问题。

根据本发明一实施例，提供一种对准结构，包括基板、对准部以及延伸部。对准部设置于基板上，延伸部设置于基板上，延伸部至少部分环绕对准部，并且与对准部间隔空隙。其中延伸部靠近对准部的一侧与对准部靠近延伸部的一侧彼此为共形(conformal)。

基于上述，相较于现有的对准结构，本发明实施例提供的对准结构进一步包含了延伸部，目的是让用于光刻对位的对准部周边不会出现光阻较薄的状况，避免色差在该处产生，影响对准部的识别。

附图说明

图1A是根据本发明第一实施例的对准结构涂布光阻后的平面图。

图1B是沿着图1A的虚线II-II’截取的截面图。

图1C是根据本发明一实施例的对准结构涂布光阻后的平面图。

图1D是根据本发明一实施例的对准结构涂布光阻后的截面图。

图1E是示意根据本发明一实施例的对准部及延伸部的配置平面图。

图2是根据本发明第二实施例的对准结构的截面图。

图3是根据本发明第三实施例的对准结构的截面图。

附图标记说明：

100,200,300,400：对准结构；

101,201,301,401：基板；

205：光阻；

102,202,302,402,502,602：对准部；

103,203,303,403,503,603：延伸部；

104,204,304,404：空隙；

206：延伸部外侧。

具体实施方式

现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在附图和描述中用来表示相同或相似部分。

请参照图1A及图1B，图1A是根据本发明第一实施例的对准结构涂布光阻后的平面图，图1B是沿着图1A的虚线II-II’截取的截面图。

根据本发明第一实施例，对准结构200包括基板201、对准部202以及延伸部203。对准部202设置于基板201上，延伸部203设置于基板201上，延伸部203至少部分环绕对准部202，并且与对准部202间隔空隙204。其中延伸部203靠近对准部202的一侧与对准部202靠近延伸部203的一侧彼此为共形(conformal)，也就是说，如图1A所示，对准部202靠近延伸部203的一侧呈现十字形状，延伸部203靠近对准部202的一侧也是呈现十字形状。