[发明专利]一种SOT-MRAM的测试结构及其测试方法有效

专利信息
申请号: 202010315504.8 申请日: 2020-04-21
公开(公告)号: CN111508549B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 哀立波;王明;王璐 申请(专利权)人: 浙江驰拓科技有限公司
主分类号: G11C29/50 分类号: G11C29/50
代理公司: 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 代理人: 赵永刚
地址: 311300 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 sot mram 测试 结构 及其 方法
【说明书】:

发明提供了一种SOT‑MRAM的测试结构及其测试方法,该测试结构包括n个首尾依次串联连接的自旋轨道矩磁存储位元。每个自旋轨道矩磁存储位元包括自旋轨道矩提供线、设置在自旋轨道矩提供线上的磁性隧道结;相邻两个自旋轨道矩磁存储位元之间,其中一个中的磁性隧道结与另一个中的自旋轨道矩提供线连接。还包括用于激励n个磁性隧道结的激励电路、及两个第一测试电极,两个第一测试电极分别与n个自旋轨道矩磁存储位元中位于首尾两端的两个自旋轨道矩磁存储位元连接。通过设置n个自旋轨道矩磁存储位元首尾依次串联连接、第一测试电极、及激励电路,简化测试结构,减小测试器件的总面积。同时对大量器件进行测试,提高测试效率。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种SOT-MRAM的测试结构及其测试方法。

背景技术

近年来发展迅速的磁性随机存储器SOT(Spin Orbit Torque,自旋轨道转矩)MRAM(Magnetic Random Access Memory,一种非易失性的磁性随机存储器)具有优异的特性。其克服了SRAM(Static Random-Access Memory,静态随机存取存储器)面积大、尺寸微缩后漏电大的缺点;其还克服了DRAM(Dynamic Random Access Memory,动态随机存取存储器)需要一直进行数据刷新,功耗大的缺点。磁性随机存储器SOT MRAM相对Flash memory(闪存),其读写时间和可读写次数优越几个数量级。

当前MRAM存储器的核心存储单元普遍采用具有垂直磁化特性的磁性隧道结,其层数多,厚度小,制备工艺十分复杂。需要对多种电性参数进行测试与监控。在研发以及量产阶段为了监控器件Rp(Resistance parallel,平行态电阻)、Rap(Resistance anti-parallel,反平行态电阻)、TMR(Tunnel Magnetoresistance,隧道磁电阻)、Vc(Voltagecritic,翻转电压)、Ic(翻转电流)等电性参数,确保产品的功能性与稳定性,测试样本的选取量会较大。目前对多样本电性测试,一般会逐个对样本进行测试,然后对测试数据进行统计分析。

现有测试SOTMTJ(Magnetic Tunnel Junction,磁性隧道结)器件的Rp、Rap、TMR、Ic及Vc分布等电性参数主要方法为:测试大量单个器件,通过数据处理得到参数统计分布;通过并联结构,利用并联测试方法得到参数统计分布。前述测试方法存在的缺点为:大量单个器件分别测试所需测试单元(testkey)面积大、测试时间长并且统计数据包含wafer(晶圆)级工艺均一性信息,对进一步分析产生困难。并联测试方法在机台精度有限的情况下,并联的器件个数有限(并联数量较高时,器件总阻值可能与导线电阻相当,测试误差大)无法极大提高测试效率,另外,若器件发生短路(short),测试结构将无法使用。

发明内容

本发明提供了一种SOT-MRAM的测试结构及其测试方法,用以简化测试结构的设置,减小测试器件的总面积,且可同时对大量器件进行测试,从而提高测试效率。

第一方面,本发明提供了一种SOT-MRAM的测试结构,该测试结构包括n个首尾依次串联连接的自旋轨道矩磁存储位元。每个自旋轨道矩磁存储位元包括自旋轨道矩提供线、以及设置在自旋轨道矩提供线上的磁性隧道结;相邻的两个自旋轨道矩磁存储位元之间,其中一个自旋轨道矩磁存储位元中的磁性隧道结与另一个自旋轨道矩磁存储位元中的自旋轨道矩提供线连接。该测试结构还包括用于激励n个磁性隧道结的激励电路、以及用于测试n个磁性隧道结的电阻值的两个第一测试电极,两个第一测试电极分别与n个自旋轨道矩磁存储位元中位于首尾两端的两个自旋轨道矩磁存储位元连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江驰拓科技有限公司,未经浙江驰拓科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010315504.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top