[发明专利]一种快速烧结成型银基触头制备方法有效
申请号: | 202010316707.9 | 申请日: | 2020-04-21 |
公开(公告)号: | CN111618297B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 刘凯;王小军;张石松;李鹏;师晓云;王勇;武旭红;李刚 | 申请(专利权)人: | 陕西斯瑞新材料股份有限公司 |
主分类号: | B22F3/105 | 分类号: | B22F3/105;C22C1/05;C22C5/06;C22C29/08;B05D7/22;B05D5/00;B05D5/08;B05D3/10;B05D3/00 |
代理公司: | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人: | 刘婷 |
地址: | 710077 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 快速 烧结 成型 银基触头 制备 方法 | ||
1.一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,主要包括以下步骤:
S1配料:将碳化钨粉、银粉按所需要求制备的触头型号重量进行称得配比,碳化钨的含量在20~80wt%,其余为银;
S2混粉:将称量好的粉末,装入混料机中进行球磨,球磨混合后将混合粉装入石墨模具,所述石墨模具内层经过表面处理,石墨模具的表面处理步骤包括:
1)将石墨模具内表面通过激光刻蚀粗化,随后采用浓度为90%的硝酸对其内表面进行氧化侵蚀1~3min;
2)通过去离子水反复冲洗多次,随后放置在真空干燥箱中进行真空烘干;
3)将干燥后石墨模具置入氩气气氛保护环境中,通过接触电阻加热处理,并将处理液以喷吹压力为0.6~0.8MPa,喷吹剂量为12~15g/cm2喷吹到其内表面;
4)对石墨模具内表面进行表面平整度检测,若表面仍有刻蚀痕迹则重复步骤2)~3),直到其表面平整,随后对其内表面抛光得到表面处理后的石墨模具;
其中,所述处理液具体由碳化硅粉、石墨粉、二氧化硅粉末、去离子水、硅油、乳化剂按照4:2:1:(12~18):(3~7):1的比例混合形成悬浊液,所述碳化硅粉末、石墨粉、二氧化硅粉的粒度在0.5~2μm;
S3烧结:将石墨模具放入放电等离子体烧结设备中,预抽真空至10pa以下,进行加热、加压烧结;
S4机加工:将烧结制备的毛坯经过少量精加工,即可得到银碳化钨触头。
2.如权利要求1所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,所述步骤S1中碳化钨粉的粒度在0.1~10μm,银粉粒度为1~50μm,纯度为99.5%以上。
3.如权利要求1所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,所述步骤S1中碳化钨粉可替换为钨粉以制备银钨触头,其中,钨粉的粒度在0.1~10μm。
4.如权利要求1所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,步骤S2球磨混合中,球磨罐中采用真空或气氛保护,球料比为1:(1~5),混粉时间为3~10h。
5.如权利要求1所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,所述激光刻蚀参数为:选择能激发60~90ns的脉冲激光,重复频率为5~8kHz,激光器的输出功率为40~50W。
6.如权利要求1所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,所述步骤S3中放电等离子烧结过程具体如下:1)预抽真空至10pa以下,起始压力为150~170MPa,以65~80℃/min的升温速率升温至400~480℃后;2)升压至160~180MPa,以40~55℃/min的速率升温至570~650℃;3)以90~120℃/min的速率升温至800~950℃,升温期间,以10MPa/min速率降压至50~80MPa,保温保压15~25秒并在风速为6~9m/s风冷至室温,随后卸压取出毛坯。
7.如权利要求6所述的一种快速烧结成型银基触头制备方法,其特征在于,所述放电等离子烧结温度为800~950℃,脉冲频率在0~50Hz,压力为50~180Mpa,并将放电等离子体烧结设备预抽真空至10pa以下。
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