[发明专利]多孔硅纳米线联合MALDI-TOF MS在代谢小分子检测中的应用

权利要求书

1.一种多孔硅纳米线联合MALDI-TOF MS在代谢小分子检测中的应用。

2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述代谢小分子的分子量小于1000。

3.根据权利要求1或2所述的应用，其特征在于，所述代谢小分子为体液代谢物。

4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述MALDI-TOF MS检测用于对待测物质进行质谱成像。

5.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，将含有代谢物的体液样品滴加到MALDI-TOF MS的金属靶片上，待样品风干后，再滴加多孔硅纳米线，继续风干后，进行MALDI-TOFMS检测。

6.根据权利要求1或5所述的应用，其特征在于，所述多孔硅纳米线的浓度为0.8-1.5mg/ml，多孔硅纳米线与待测样品的体积比为1-4:1。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述多孔硅纳米线的浓度为1mg/ml，多孔硅纳米线与待测样品的体积比为2:1。

8.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述多孔硅纳米线通过以下方法制备得到：

(1)预处理：除去硅片表面的氧化层；

(2)银沉积：将预处理后的硅片浸泡于含银液体中进行银沉积；

(3)刻蚀：用去离子水清洗沉积有银的硅片，然后在浸蚀液中浸泡50-70min，然后再除去硅片表面的银，制得硅纳米线。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，银沉积过程具体为：将将预处理后的硅片浸泡于含4.5-5.0M氢氟酸和0.003-0.008M硝酸银的混合溶液中浸泡40-80s。

10.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，刻蚀过程具体为：将银沉积后的硅片用去离子水冲洗，接着再浸泡于含4.5-5.5M氢氟酸和0.6-1.2M双氧水的混合溶液中，浸泡50-70min，然后再浸入浓硝酸中浸泡50-70min，制得硅纳米线。