[发明专利]多孔硅纳米线联合MALDI-TOF MS在代谢小分子检测中的应用在审

专利信息
申请号: 202010316858.4 申请日: 2020-04-21
公开(公告)号: CN111413395A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 王云兵;张华;杨立;钟晟 申请(专利权)人: 四川大学;深圳泰莱生物科技有限公司
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64;G01N1/28
代理公司: 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 代理人: 郭艳艳
地址: 610064 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 多孔 纳米 联合 maldi tof ms 代谢 分子 检测 中的 应用
【说明书】:

发明提供了一种多孔硅纳米线联合MALDI‑TOF MS在代谢小分子检测中的应用。多孔硅纳米线作为MALDI‑TOF MS基质的分析方法适用于对分子量小于1000的小分子进行质谱分析,大大简化了小分子样品的检测难度,提高了小分子样品的MALDI‑TOF MS的检测灵敏度,同时可以实现对现有基质所产生的质谱峰干扰的排除以及对小分子样品质谱信号的增强处理。

技术领域

本发明属于质谱检测技术领域,具体涉及一种多孔硅纳米线联合MALDI-TOF MS在代谢小分子检测中的应用。

背景技术

由于代谢改变可直接参与转化过程或支持使肿瘤生长的生物学过程,小分子代谢物可成为癌症特异性信息的独特来源,因此,代谢组学在临床肿瘤研究中的应用已经成为近年来的研究热点。而在此期间,质谱检测方法在也扮演着越来越重要的角色。

基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF MS)技术在多肽、蛋白和寡糖等生物分子的分析中已成为一项有用的技术。然而用于MALDI-TOF MS的有机小分子基质虽然种类繁多,却很难用于小分子量(10000Da以下)化合物的分析,主要原因在于有机小分子基质会发生破裂及分子之间的缔合,从而产生严重的基质背景干扰现象。因此,研究一种基于能够吸收激光能量而不产生可以被检测到的簇离子的纳米材料辅助MALDI-TOF MS基质,使其能够检测分析低质量范围内的代谢组学是非常有意义的。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题,本发明提供一种多孔硅纳米线联合MALDI-TOFMS在代谢小分子检测中的应用,该多孔硅纳米线作为MALDI-TOF MS基质的分析方法适用于对分子量小于1000的小分子进行质谱分析,大大简化了小分子样品的检测难度,提高了小分子样品的MALDI-TOF MS的检测灵敏度,同时可以实现对现有基质所产生的质谱峰干扰的排除以及对小分子样品质谱信号的增强处理。

为实现上述目的,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

一种多孔硅纳米线联合MALDI-TOF MS在代谢小分子检测中的应用。

进一步地,代谢小分子的分子量小于1000。

进一步地,代谢小分子为体液代谢物,该体液代谢物可以为血清、血浆、尿液、汗液、精液、脑积液、关节液等。

进一步地,MALDI-TOF MS检测用于对待测物质进行质谱成像。

进一步地,将含有代谢物的体液样品滴加到MALDI-TOF MS的金属靶片上,待样品风干后,再滴加多孔硅纳米线,继续风干后,进行MALDI-TOF MS检测。

进一步地,多孔硅纳米线的浓度为0.8-1.5mg/ml,多孔硅纳米线与待测样品的体积比为1-4:1。

进一步地,多孔硅纳米线的浓度为1mg/ml,多孔硅纳米线与待测样品的体积比为2:1。

进一步地,多孔硅纳米线通过以下方法制备得到:

预处理:除去硅片表面的氧化层;

银沉积:将预处理后的硅片浸泡于含银液体中进行银沉积;

刻蚀:用去离子水清洗沉积有银的硅片,然后在浸蚀液中浸泡50-70min,然后再除去硅片表面的银,制得硅纳米线。

进一步地,银沉积过程具体为:将预处理后的硅片浸泡于含4.5-5.0M氢氟酸和0.003-0.008M硝酸银的混合溶液中浸泡40-80s;优选为氢氟酸的浓度为4.8M,硝酸银的浓度为0.005M,浸泡时间为60s。

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