[发明专利]基板处理设备和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理方法，包括：

由具有第三基准轴的基板输送机构将基板输送至具有第一基准轴的成膜室的内部空间，以使得所述第三基准轴与所述第一基准轴一致；

在所述成膜室的所述内部空间中由具有第二基准轴的可动构件移动所述基板或用于限制在所述基板上形成膜的区域的掩模，以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差；

在移动所述基板或所述掩模之后，在所述内部空间中的压力降低的状态下，利用所述可动构件对所述掩模和所述基板以堆叠状态进行支撑；

在所述支撑之后，经由所述掩模在所述基板上形成膜；以及

在所述形成之后，将所述基板从所述成膜室的内部空间输送至外部，

所述基板处理方法还包括：

在所述支撑和所述形成之间或者在所述形成和所述输送之间，移动支撑所述基板的所述可动构件以减小所述第一基准轴和所述第二基准轴之间的距离。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，移动所述基板或所述掩模包括：在所述基板由基板支撑机构支撑的状态下，使所述可动构件移动。

3.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，移动所述基板或所述掩模在所述基板与所述掩模分离的状态下进行。