[发明专利]参数校准方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种参数校准方法，其特征在于，所述方法包括：

获取升降机构当前在上升至第一终点处的第一目标霍尔值和/或所述升降机构当前在下降至第二终点处的第二目标霍尔值；

获取所述升降机构上一次在上升至第三终点处的第一参考霍尔值和/或所述升降机构上一次在下降至第四终点处的第二参考霍尔值；

当所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配时，对所述第一参考霍尔值进行校准；或，当所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配时，对所述第二参考霍尔值进行校准；或，当所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配且所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配时，对所述第一参考霍尔值和所述第二参考霍尔值进行校准。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述当所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配时，对所述第一参考霍尔值进行校准；或，当所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配时，对所述第二参考霍尔值进行校准；或，当所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配且所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配时，对所述第一参考霍尔值和所述第二参考霍尔值进行校准，包括：

计算所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值的第一差值，和/或所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值的第二差值；

当所述第一差值大于第一预设值时，对所述第一参考霍尔值进行校准；

当所述第二差值大于第二预设值时，对所述第二参考霍尔值进行校准；

当所述第一差值大于第一预设值且所述第二差值大于第二预设值时，对所述第一参考霍尔值和所述第二参考霍尔值进行校准。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取所述升降机构上一次在上升至第三终点处的第一参考霍尔值和/或所述升降机构上一次在下降至第四终点处的第二参考霍尔值之后，还包括：

获取当前的磁场参数以及机械磨损参数；

基于所述磁场参数以及所述机械磨损参数对所述第一参考霍尔值进行修正，得到修正后的所述第一参考霍尔值；和/或，

基于所述磁场参数以及所述机械磨损参数对所述第二参考霍尔值进行修正，得到修正后的所述第二参考霍尔值。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述第一参考霍尔值和/或所述第二参考霍尔值进行校准，包括：

继续获取所述升降机构在上升至所述第一终点处的至少一个所述第一目标霍尔值，和/或，继续获取所述升降机构当前在下降至所述第二终点处的至少一个所述第二目标霍尔值；

当各所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配，确定各所述第一目标霍尔值中的第一优选霍尔值，并基于所述第一优选霍尔值对所述第一参考霍尔值进行校准；

当各所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配，确定各所述第二目标霍尔值中的第二优选霍尔值，并基于所述第二优选霍尔值对所述第二参考霍尔值进行校准；

当各所述第一目标霍尔值与所述第一参考霍尔值不匹配，且各所述第二目标霍尔值与所述第二参考霍尔值不匹配时，确定各所述第一目标霍尔值中的所述第一优选霍尔值，并基于所述第一优选霍尔值对所述第一参考霍尔值进行校准；以及，确定各所述第二目标霍尔值中的所述第二优选霍尔值，并基于所述第二优选霍尔值对所述第二参考霍尔值进行校准。