[发明专利]影像分析系统及影像分析方法在审
申请号: | 202010331956.5 | 申请日: | 2020-04-24 |
公开(公告)号: | CN113554585A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 吴东郁;廖俊谚;吴俊昇;蔡高财;黄兆义 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/62;G06T7/73;G06N3/04;G06N3/08;G01B15/00;G01N23/2251 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;汤在彦 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 分析 系统 方法 | ||
一种影像分析系统及影像分析方法,所述影像分析系统包含:一影像获取装置以及一处理器;影像获取装置用以获取一待分析影像;处理器用以将待分析影像输入至一区域卷积神经网络模型,区域卷积神经网络模型输出一遮罩影像,处理器计算遮罩影像中的一遮罩物件的一中心,将中心视为一坐标原点,往相对坐标原点的四个象限分别搜寻与坐标原点距离最远的一最远坐标点,对于每个最远坐标点产生一影像分析区块,并将影像分析区块进行一后处理,以取得一物件范围。
技术领域
本发明是关于一种分析系统及分析方法,特别是关于一种影像分析系统及影像分析方法。
背景技术
关键尺寸扫描电子显微镜(Critical Dimension Scanning ElectronMicroscope,CDSEM)主要用途为线上产品线宽测量,其特点为晶片无须经过切片或镀金属膜等预处理步骤,即可观察及测量光阻、绝缘层及金属层等的图案。当使用者以CDSEM测量关键尺寸时,必须先建置工艺参数(recipe)让CDSEM知道要怎么标的、标的在哪、怎么测量等信息。测量CD也是影像处理的一环,必须告知CDSEM精准的测量区域、方向、取值方式等信息,否则CDSEM无法在大面积的图像中找到标的,并取得正确的结果,也因此前置作业(建构工艺参数)相当重要但也相当耗时。
由此可知,前置作业需要大量时间,若改变测量位置或物件,即需要重新设置工艺参数,且此方法在分析灰阶影像时,若起始黑白交错边与预期不同,则会整批影像测量错误,故影像获取的容错率相当低。
因此,上述现有方式仍有待加以进一步改进。
发明内容
为了解决上述的问题,本申请内容的一实施例提供了一种影像分析系统,包含:一影像获取装置以及一处理器。影像获取装置用以获取一待分析影像。处理器用以将待分析影像输入至一区域卷积神经网络(Region-based Convolutional Neural Network,RCNN)模型,区域卷积神经网络模型输出一遮罩影像,处理器计算遮罩影像中的一遮罩物件的一中心,将中心视为一坐标原点,往相对坐标原点的四个象限分别搜寻与坐标原点距离最远的一最远坐标点,对于每个最远坐标点产生一影像分析区块,并将影像分析区块进行一后处理,以取得一物件范围。
为了解决上述的问题,本申请内容的一实施例提供了一种影像分析方法,包含:输入一待分析影像至一区域卷积神经网络模型,区域卷积神经网络模型输出一遮罩影像;计算遮罩影像中的一遮罩物件的一中心;将中心视为一坐标原点,往相对坐标原点的四个象限分别搜寻与坐标原点距离最远的一最远坐标点;对于每个最远坐标点产生一影像分析区块;以及将影像分析区块进行一后处理,以取得一物件范围。
本发明所示的影像分析系统及影像分析方法,将待分析影像输入至区域卷积神经网络模型,依据区域卷积神经网络模型输出的遮罩影像产生多个影像分析区块,并将此影像分析区块进行后处理,无须将整张遮罩影像都进行后处理,即可以取得遮罩影像中重要的关键点,故大幅减少运算量。在完成后处理之后,处理器可自动地分析出此影像分析区块中的关键点,透过此关键点的位置,可精准地可得到物件范围的效果。
附图说明
图1为依照本发明一实施例绘示一种影像分析系统的方块图;
图2为根据本发明的一实施例绘示一种影像分析方法的流程图;
图3A~图3D为根据本发明的一实施例绘示一种影像分析方法的示意图;
图4为根据本发明的一实施例绘示一种产生影像分析区块的方法的示意图;
图5A~图5F为根据本发明的一实施例绘示一种后处理方法的示意图;
图6为根据本发明的一实施例绘示一种影像分析方法的示意图。
[符号说明]
100:影像分析系统
10:影像获取装置
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