[发明专利]隔膜的制造方法及隔膜的制造装置

说明书

容易检出隔膜上形成的微小缺损，特别是凹部。进行检出隔膜(1)的缺损的针对隔膜(1)的耐电压检查，隔膜(1)为在基材的至少一个面上形成功能层而成。

技术领域

本发明涉及隔膜的制造方法及隔膜的制造装置。

背景技术

锂离子二次电池等的非水电解液二次电池作为个人电脑、手机和便携信息终端等的电池被广泛使用。特别地，锂离子二次电池与以往的二次电池相比，作为削减CO₂的排放量、有助于节省能源的电池而受到瞩目。

以非水电解液二次电池用隔膜为代表的隔膜的制造工序包括检出隔膜的缺陷的针对隔膜的检查工序(参照专利文献1)。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本国公开专利公报“特开2016-133325号公报(2016年7月25日公开)”

发明内容

【发明要解决的课题】

专利文献1公开的技术以导电性异物的检出为目的。另一方面，与导电性异物的检出不同，针对隔膜的检查工序需要检出隔膜的微小缺损。

隔膜在基材的至少一个面上形成功能层。作为这样的隔膜的微小缺损的一例，可举出贯通隔膜的孔即针孔，隔膜上形成的凹陷即凹部和以贯通隔膜的方式形成的切口即裂缝。针对隔膜的检查工序中需要检出这些针孔、凹部和裂缝等。

为了检出隔膜的微小缺损，考虑采用针对隔膜的光学检查。但是，针对隔膜的光学检查中产生难以检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损的问题。特别地，针对隔膜的光学检查中产生不适合检出隔膜上形成的凹部的问题。

本发明的一个方式的目的在于，容易检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损，特别是凹部。

【用于解决课题的手段】

为了解决上述课题，本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法和隔膜的制造装置进行检出隔膜的缺损的针对该隔膜的耐电压检查，所述隔膜为在基材的至少一个面上形成功能层而成。

根据上述构成，可容易地检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损。作为该微小缺损的一例，可举出针孔、凹部和裂缝。特别地，针对隔膜的光学检查不适合检出隔膜上形成的凹部，但根据上述构成容易检出凹部。

【发明效果】

根据本发明的一个方式，可容易地检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损，特别是凹部。

附图说明

【图1】表示隔膜上形成缺损的多个例子。

【图2】表示针对隔膜的耐电压检查的基本原理的示意图。

【图3】表示针对隔膜的耐电压检查的基本原理的其他示意图。

【图4】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第1步骤的主视图。

【图5】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第2步骤的主视图。

【图6】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第3步骤的主视图。

【图7】用于具体说明本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第4步骤中的优劣判定的概念图。

【图8】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第5步骤的主视图。

【图9】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第6步骤的主视图。

【图10】表示隔膜、隔膜片和卷取隔膜片而制成的卷绕体的主视图。