[发明专利]一种结合图形匹配的OPC修正方法有效

专利信息
申请号: 202010336793.X 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN111505898B 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 雷海波;乔彦辉;田明;王丹;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 结合 图形 匹配 opc 修正 方法
【权利要求书】:

1.一种结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于,该方法至少包括以下步骤:

步骤一、提供一个图形库,所述图形库为由形状各异的多个图形组成的集合;

步骤二、对所述图形库中的所述多个图形依次作基于规则的OPC修正和基于模型的OPC修正,依次得到第一目标层和第一掩膜层;然后根据所述第一掩膜层中每个分段与所述第一目标层中相应分段的距离差算出每个分段的偏移值,将所述偏移值对应到所述图形的相应分段形成数据库;

步骤三、输入待执行OPC的版图,以该版图中的图形层作为第二目标层;

步骤四、通过所述图形库里的所述图形对所述第二目标层作图形匹配,再将所述版图中得到匹配的图形根据所述数据库做分段和偏移,形成光罩前的迭代层;

步骤五、以所述第二目标层作目标层、以所述光罩前的迭代层作修正层执行基于模型的OPC修正,经迭代后得到目标轮廓的第二掩膜层。

2.根据权利要求1所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤一中的所述图形库是由绘制或者截取图形的方法形成。

3.根据权利要求1所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤一中的所述图形库中的图形根据需要随时更新。

4.根据权利要求1所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤二中的所述数据库中包括所述图形库中的图形、所述偏移值以及与所述偏移值对应的图形的相应分段。

5.根据权利要求4所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:所述数据库根据需要随时更新。

6.根据权利要求5所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤二中的所述偏移值为所述第一掩膜层和所述第一目标层之间带方向的距离,所述带方向的距离为每个图形的分段的移动量。

7.根据权利要求1所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤三中的所述第二目标层为基于规则的OPC修正后形成的图层。

8.根据权利要求1所述的结合图形匹配的OPC修正方法,其特征在于:步骤五中将所述版图、所述第二目标层、所述光罩前的迭代层输入到基于模型的OPC系统中执行所述基于模型的OPC修正。

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