[发明专利]真空镀膜装置

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体具有真空腔；

第一收放辊和第二收放辊，设置于所述真空腔内，其中一个用于放出未镀膜的基膜，另一个用于收绕已镀膜的基膜；所述第一收放辊的直径为a1；

超导主动辊，所述超导主动辊设置于真空腔内，所述超导主动辊用以供待镀基膜缠绕，用于支撑展平待镀基膜；所述超导主动辊的直径为D；

靶材，所述靶材沿所述所述超主动辊的边缘排布，所述靶材的尺寸为d；

导向辊、张紧辊以及压紧辊，所述导向辊靠近第一收放辊或第二收放辊设置，所述压紧辊靠近所述超导主动辊设置，所述张紧辊位于所述导向辊和所述压紧辊之间；所述压紧辊的直径为L1；

所述第一收放辊直径a1与超导主动辊的直径D之间的比值为3/8～11/12；

所述靶材的尺寸d与超导主动辊的直径D之间的比值为1/25～1/6；

所述压紧辊的直径L1与超导主动辊的直径D之间的比值为3/20～1/5。

2.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述靶材与真空镀膜装置的主控电路连接，主控电路包括电压调节电路，以调节加载在靶材上的电压。

3.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，真空镀膜装置还包括氩气输入装置，所述壳体的侧壁上开设氩气输入口，所述氩气输入装置的出气口与所述氩气输入口连通。

4.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一收放辊和第二位收放辊临近设置于所述超导主动辊的同一侧；

所述张紧辊和所述第一收放辊分别位于所述导向辊的相对两侧，所述张紧辊和所述超导主动辊分别位于所述压紧辊的相对两侧。

5.如权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述壳体呈圆筒状，所述第一收放辊和第二收放辊位于所述真空腔的上侧；

所述靶材的数量为多个，多个所述靶材沿所述超导主动辊的中下部的周向排布。

6.如权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一收放辊和所述超导主动辊之间具有隔离间隙m，隔离间隙m的尺寸为5～10mm。

7.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，真空镀膜装置还包括抽真空装置，抽真空装置与壳体的内部连通，以对壳体的内部进行抽真空。

8.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述超导主动辊和壳体由石墨烯制成。

9.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述张紧辊的直径为L2，所述张紧辊的直径L2与超导主动辊的直径D之间的比值为1/20～1/5；

所述导向辊的直径为L3，所述导向辊的直径L3与超导主动辊的直径D之间的比值为1/20～1/5。

10.如权利要求1至9中任意一项所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述超导主动辊的直径D为600～2000mm；

所述压紧辊的直径L1为100～120mm；

所述第一收放辊的直径a1为550～750mm；

所述靶材的尺寸d为80～100mm。