[发明专利]微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置

权利要求书

1.一种微透镜组件，其特征在于，包括：

透明基板，具有工作面；

压印基底，设于所述透明基板的工作面上；所述压印基底的远离所述透明基板的表面设有凸起；所述凸起围成若干个不连通的凹陷；

微透镜阵列，包括若干个设于所述压印基底的远离所述透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；所述微透镜与所述凹陷一一对应，且所述微透镜位于所述凹陷内；以及

遮光层，完全覆盖所述压印基底的未被所述微透镜覆盖的部分，并部分覆盖所述微透镜；所述遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构的中心轴线与对应的所述微透镜的中心轴线共线；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构在所述微透镜上的投影全部落在所述微透镜上，并与所述微透镜的边缘有间隔。

2.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，沿与所述工作面平行的方向，所述镂空结构在所述压印基底上的投影与所述微透镜的边缘的间隔≤2.5μm。

3.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述遮光层的覆盖所述凸起的部分为凸起覆盖区；在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述遮光层的凸起覆盖区的高度高于所述微透镜的高度。

4.根据权利要求3所述的微透镜组件，其特征在于，在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述遮光层的凸起覆盖区与所述微透镜的高度差为5μm-10μm。

5.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述遮光层的覆盖所述凸起的部分为凸起覆盖区；垂直于所述工作面且由所述工作面指向所述凸起覆盖区的方向，所述凸起覆盖区的外侧面与对应的所述微透镜的中心轴线在沿所述工作面的方向的距离逐渐增大。

6.根据权利要求5所述的微透镜组件，其特征在于，所述凸起覆盖区的与所述工作面垂直的任一截面的外侧边均为直线；所述凸起覆盖区的与所述工作面垂直的任一截面的外侧边与所述工作面形成的夹角≥115°。

7.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述遮光层的覆盖所述凸起的部分为凸起覆盖区；所述凸起覆盖区在所述工作面上的投影与所述微透镜在所述工作面上的投影之间的间距≤12μm。

8.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述遮光层的厚度为0.8μm-3μm。

9.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述凸起的远离所述透明基板的表面的边缘设有倒角。

10.一种光学指纹模组，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的微透镜组件。

11.一种电子装置，其特征在于，包括权利要求9所述的光学指纹模组。

12.一种权利要求1至7任一项所述的微透镜组件的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供透明基板；

通过压印的方式在透明基板的工作面上形成所述压印基底和所述微透镜阵列；

形成所述遮光层。

13.根据权利要求12所述的微透镜组件的制备方法，其特征在于，形成所述遮光层的步骤的操作为：

通过旋涂或喷涂的方式形成覆盖所述压印基底和所述微透镜阵列的遮光层初体；

在所述遮光层初体上形成所述镂空结构，以形成所述遮光层。