[发明专利]微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置

说明书

本发明涉及一种微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置。一种微透镜组件，包括：透明基板；压印基底，设于透明基板上；压印基底的远离透明基板的表面设有凸起；凸起围成若干个不连通的凹陷；微透镜阵列，包括若干个设于压印基底的远离透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；微透镜与凹陷一一对应，且微透镜位于凹陷内；以及遮光层，完全覆盖压印基底的未被微透镜覆盖的部分，并部分覆盖微透镜；遮光层具有若干个与微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于工作面的方向，镂空结构的中心轴线与对应的微透镜的中心轴线共线；在垂直于工作面的方向，镂空结构在微透镜上的投影全部落在微透镜上，并与微透镜的边缘有间隔。

技术领域

本发明涉及微透镜领域，特别是涉及一种微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置。

背景技术

微透镜阵列是指若干个呈阵列状排布的微纳尺度的透镜群组。它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。一般地，为了避免倾斜角度较大的光射入微透镜后再透过压印基底后成像，往往在透明基板上设置凹槽，并在凹槽内设置遮光材料的方式，遮挡入射的倾斜角度较大的光。然而该方式需要改变透明基板的结构，导致透明基板强度降低，同时还可能影响透明基板上二极管等元件的布局。

发明内容

基于此，有必要提供一种不改变透明基板的机构也可阻挡倾斜角度较大的光射入微透镜的微透镜组件。

一种微透镜组件，包括：

透明基板，具有工作面；

压印基底，设于所述透明基板的工作面上；所述压印基底的远离所述透明基板的表面设有凸起；所述凸起围成若干个不连通的凹陷；

微透镜阵列，包括若干个设于所述压印基底的远离所述透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；所述微透镜与所述凹陷一一对应，且所述微透镜位于所述凹陷内；以及

遮光层，完全覆盖所述压印基底的未被所述微透镜覆盖的部分，并部分覆盖所述微透镜；所述遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构的中心轴线与对应的所述微透镜的中心轴线共线；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构在所述微透镜上的投影全部落在所述微透镜上，并与所述微透镜的边缘有间隔。

上述微透镜组件，遮光层覆盖微透镜的边缘，阻挡倾斜角较大的光射入微透镜的边缘。压印基底上凸起的设置，使得遮光层的覆盖凸起的部分的高度较高，也可以阻挡入射经过该部分遮光层的入射至微透镜的光。另外遮光层位于压印基底的远离透明基板的一侧，从而无需改变透明基板的结构即可实现对倾斜角较大的光的阻挡，即避免了透明基板因设置凹槽而导致的强度的降低，也不会影响透明基板上二极管等元件的布局。

在其中一个实施例中，沿与所述工作面平行的方向，所述镂空结构在所述压印基底上的投影与所述微透镜的边缘的间隔≤2.5μm。从而，一方面可以遮挡射入微透镜边缘的倾斜角度较大的光；另一方面也避免微透镜被覆盖较多而导致穿过微透镜的光过少而影响成像效果。

在其中一个实施例中，所述遮光层的覆盖所述凸起的部分为凸起覆盖区；在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述遮光层的凸起覆盖区的高度高于所述微透镜的高度。从而可以进一步遮挡射入微透镜边缘的倾斜角度较大的光。

在其中一个实施例中，在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述遮光层的凸起覆盖区与所述微透镜的高度差为5μm-10μm。在能够较好的遮挡倾斜射入微透镜的光以使得光学指纹模组具有较好成像效果外，还能避免因凸起的高度h1过高而较多的增加微透镜组件的厚度。