[发明专利]一种基于Cu/UiO-66金属有机框架猝灭的同步荧光检测氯霉素的方法有效

专利信息
申请号: 202010342095.0 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111398235B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 向东山;鲁子敬;汪鹏;熊威威;翟琨 申请(专利权)人: 湖北民族大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;C09K11/06;C09K11/02
代理公司: 武汉宇晨专利事务所(普通合伙) 42001 代理人: 余晓雪
地址: 445000 湖北省恩*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 cu uio 66 金属 有机 框架 同步 荧光 检测 氯霉素 方法
【权利要求书】:

1.一种基于Cu/UiO-66金属有机框架猝灭的同步荧光检测氯霉素的方法,其步骤如下:

(1)由DNA合成仪合成标记有荧光基团的氯霉素CAP适配体荧光探针,所使用CAP序列适配体探针序列为:5'-ACT TCA GTG AGT TGT CCC ACG GTC GGC GAG TCG GTG GTA GCC C-3',3' 端接有一个ROX荧光基团,适配体荧光探针由高效液相色谱纯化;

(2)将步骤(1)制备的标记有荧光基团的CAP适配体荧光探针溶于Tris-HCl缓冲溶液中,配置成反应液A;

所述Tris-HCl缓冲溶液的浓度为0.2 mol/L、pH为6.8-8.3;

所述Tris-HCl缓冲溶液中含有20-100mmol/L的NaCl;

(3)合成铜-锆双金属有机框架材料Cu/UiO-66,依次包括以下步骤:

(a)合成UiO-66晶体:在反应釜中加入1,4-苯二甲酸和四氯化锆,然后向其中加入DMF和冰醋酸做溶剂,充分搅拌后密封反应釜,在120℃下恒温反应20-30 h,反应结束后离心,所得固体洗涤、真空干燥,得到UiO-66晶体;

所述1,4-苯二甲酸和四氯化锆加入的质量比为25:(20-35);

(b)合成Cu/UiO-66晶体:向步骤(a)合成的UiO-66晶体中加入CuCl2·2H2O,然后向其中加入DMF为溶剂,超声分散后转移至反应釜中并密封,在85℃下恒温反应20-30 h,反应结束后离心、洗涤、真空干燥得到铜-锆双金属有机框架材料Cu/UiO-66;

所述UiO-66晶体与CuCl2·2H2O加入的质量比为100 :(80-100);

(4)将铜-锆双金属有机框架材料Cu/UiO-66均匀分散在Tris-HCl缓冲溶液中,制备得到反应液B;

(5)将步骤(2)的反应液A与步骤(4)的反应液B进行混合,混合后的溶液中标记有荧光基团的CAP适配体荧光探针与Cu/UiO-66的比例为1 mol:1.8 g,混合后在室温下反应10-60min使其偶联,反应完全后得到混合液C,混合液C即为传感器Cu/UiO-66@Aptamers;

所述反应液A与反应液B的体积比为1:1;

所述反应液A中标记有荧光基团的CAP适配体荧光探针的浓度为10-200nmol/L;

(6)取50 μL的混合液C至微量比色皿中,向其中加入不同浓度的CAP标准溶液50 μL,补充Tris-HCl缓冲溶液至总体积为500 μL,以适配体探针3' 端所连接的荧光基团ROX的斯托克斯位移30 nm为基准,设定激发波长为490 nm,并在520-700 nm范围内进行同步荧光扫描;

以荧光染料ROX的荧光强度变化值为纵坐标,以CAP标准溶液的浓度为横坐标,得到相应的荧光强度与CAP浓度之间的工作曲线,并拟合回归方程;

(7)将步骤(6)中的CAP标准溶液换为待检测的溶液,通过同步荧光扫描所得到的荧光强度的变化值,结合步骤(6)中所得到的工作曲线及回归方程,实现对实际样品中CAP的定量检测。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤(5)中的反应时间为40 min。

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