[发明专利]一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法

权利要求书

1.一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于在待施工的基坑与临近桩基之间设有凹槽，所述的凹槽内设有压力水囊，压力水囊内具有一用于填充液体的内腔，且所述的压力水囊的表面设有一联通至内腔的进出水阀门，所述的压力水囊具有三层结构，由内至外依次为内层、抗拉中层和弹性外层，所述的内层由具有气密性和水密性的材料制成。

2.如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的内层由PVC或者TPU材料制成。

3.如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的抗拉中层由高聚物丙烯、PET或者其他聚酯类材料制成。

4.如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的弹性外层由橡胶材料制成。

5.如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的凹槽的深度为所述的基坑的深度的3/4。

6.如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的凹槽与桩基之间的距离不小于0.5米且不大于1米，且所述的凹槽的宽度在300mm以内。

7.一种采用如权利要求1所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构的施工方法，其特征在于所述的方法包括如下步骤：

步骤a. 在待施工基坑与邻近桩基之间开挖凹槽，而后在凹槽内分段布置相互衔接的压力水囊，并向压力水囊内填充液体以使压力水囊能填充满凹槽；

步骤b. 通过对压力水囊充放水来施加压力或者减少压力，用以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移。

8.如权利要求7所述的一种施工方法，其特征在于在所述的临近桩基的环向外侧开挖一环向凹槽，所述的环向凹槽的每侧的长度均与一个压力水囊的长度相适应，以使得在环向凹槽的每侧均正好能容纳一个压力水囊。

9.如权利要求7所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于在临近基坑近于基坑的一侧开挖一近侧凹槽，并在所述的近侧凹槽的两端向远离基坑的方向开挖延伸凹槽，而后在所述的凹槽内沿凹槽的设置方向依次设有若干前后相互衔接的压力水囊。

10.如权利要求7所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构，其特征在于所述的方法还包括：

步骤c. 在基坑施工完成后，抽出压力水囊内的液体后取出压力水囊，然后回填凹槽以部分恢复桩周侧的摩阻力。