[发明专利]一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法在审
申请号: | 202010343114.1 | 申请日: | 2020-04-27 |
公开(公告)号: | CN111424727A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 白向臣;钱琨;王力玮;刘习生;穆保岗;韩峰;彭宇一 | 申请(专利权)人: | 中铁上海工程局集团华海工程有限公司;无锡地铁集团有限公司 |
主分类号: | E02D31/00 | 分类号: | E02D31/00 |
代理公司: | 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 | 代理人: | 吴玮;徐成泽 |
地址: | 201101 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减少 基坑 施工 临近 桩基 影响 结构 方法 | ||
本发明涉及基坑施工技术领域,具体来说是一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法,在待施工的基坑与临近桩基之间设有凹槽,凹槽内设有压力水囊,压力水囊具有三层结构,由内至外依次为内层、抗拉中层和弹性外层,所述的内层由具有气密性和水密性的材料制成。本发明同现有技术相比,其优点在于:密集城区进行基坑施工情况下,通过凹槽和压力水囊的设置能有效减少基坑降水导致邻近桩基中产生的负摩阻力,同时能有效减少基坑施工引起的周围土体水平位移对邻近桩基的影响,通过对压力水囊充放水能施加压力或者减少压力,以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移,从而可大幅度减少基坑开挖对周边建筑的影响,降低施工成本,提高施工效率。
技术领域
本发明涉及基坑施工技术领域,具体来说是一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法。
背景技术
基坑施工中的基坑降水以及支护结构的位移将不可避免地导致基坑周围土体产生竖向沉降和水平位移。其中,基坑降水可能导致邻近挤土桩周围地下水位的降低,引起邻近桩基周围土体中有效应力的增加,从而在桩基础上产生负摩阻力,负摩阻力的存在会使桩基础产生竖向的附加沉降。基坑支护结构的位移将导致周围土体内产生水平位移,从而在邻近桩基中产生水平附加荷载,引起桩基的水平位移。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术的不足,提供一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法,通过设置压力水囊,减少对邻近桩基产生的影响。
为了实现上述目的,设计一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构,在待施工的基坑与临近桩基之间设有凹槽,所述的凹槽内设有压力水囊,压力水囊内具有一用于填充液体的内腔,且所述的压力水囊的表面设有一联通至内腔的进出水阀门,所述的压力水囊具有三层结构,由内至外依次为内层、抗拉中层和弹性外层,所述的内层由具有气密性和水密性的材料制成。
所述的内层由PVC或者TPU材料制成。
所述的抗拉中层由高聚物丙烯、PET或者其他聚酯类材料制成。
所述的弹性外层由橡胶材料制成。
所述的凹槽的深度为所述的基坑的深度的3/4。
所述的凹槽与桩基之间的距离不小于0.5米且不大于1米,且所述的凹槽的宽度在300mm以内。
本发明还设计一种采用所述的减少基坑施工对临近桩基影响的结构的施工方法,包括如下步骤:步骤a. 在待施工基坑与邻近桩基之间开挖凹槽,而后在凹槽内分段布置相互衔接的压力水囊,并向压力水囊内填充液体以使压力水囊能填充满凹槽;步骤b. 通过对压力水囊充放水来施加压力或者减少压力,用以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移。
在所述的临近桩基的环向外侧开挖一环向凹槽,所述的环向凹槽的每侧的长度均与一个压力水囊的长度相适应,以使得在环向凹槽的每侧均正好能容纳一个压力水囊。
在临近基坑近于基坑的一侧开挖一近侧凹槽,并在所述的近侧凹槽的两端向远离基坑的方向开挖延伸凹槽,而后在所述的凹槽内沿凹槽的设置方向依次设有若干前后相互衔接的压力水囊。
所述的方法还包括:步骤c. 在基坑施工完成后,抽出压力水囊内的液体后取出压力水囊,然后回填凹槽以部分恢复桩周侧的摩阻力。
本发明同现有技术相比,组合结构简单可行,易于安装与拆卸,其优点在于:密集城区进行基坑施工情况下,通过凹槽和压力水囊的设置能有效减少基坑降水导致邻近桩基中产生的负摩阻力,同时能有效减少基坑施工引起的周围土体水平位移对邻近桩基的影响,通过对压力水囊充放水能施加压力或者减少压力,以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移,从而可大幅度减少基坑开挖对周边建筑的影响,降低施工成本,提高施工效率,实现密集城区基坑的安全快速施工,并且压力水囊还能放水后折叠收集,便于存放和转运后再次利用。
附图说明
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