[发明专利]一种掩膜版的缺陷修复方法

权利要求书

1.一种掩膜版的缺陷修复方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、提供掩膜版；

其中，所述掩膜版由匀胶铬版经曝光、显影、刻蚀后获得，所述掩膜版未经过去胶处理；

S2、于显微镜下寻找所述掩膜版上的缺陷，再在所述缺陷周围形成非水溶性涂料圈；

其中，所述缺陷为铬点缺陷；

S3、向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加水系去胶液，去除非水溶性涂料圈所围区域的光刻胶，然后去除非水溶性涂料圈内的水系去胶液；

S4、向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加铬腐蚀液，修复缺陷；

S5、将修复缺陷后的掩膜版置于去胶液中去除版面的光刻胶；去除版面的非水溶性涂料圈；

S6、对S5处理后的掩膜版进行清洗，获得修复后的掩膜版。

2.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，S2中，所述显微镜为光学显微镜。

3.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，S2中，使用笔将缺陷圈起来，形成非水溶性涂料圈；所述笔为油性笔、油漆笔中的一种。

4.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，S3中，所述水系去胶液为浓度为3-8wt%的碱液。

5.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，S5中，将修复缺陷后的掩膜版置于去胶液中去除版面的光刻胶后，再去除版面的非水溶性涂料圈。

6.根据权利要求1所述的缺陷修复方法，其特征在于，S5中，用有机溶剂或浓硫酸去除非水溶性涂料圈。

7.根据权利要求1-5任一项所述的缺陷修复方法，其特征在于，S6中，对S5处理后的掩膜版进行超声清洗，获得修复后的掩膜版。