[发明专利]采用高次模实现的E-band双工器在审

专利信息
申请号: 202010344580.1 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111403871A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 江顺喜;杜锦杰;殷实;梁国春;周方平;项显;彭海璐 申请(专利权)人: 江苏贝孚德通讯科技股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P1/208
代理公司: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 代理人: 俞江
地址: 214174 江苏省无锡市惠山*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 采用 高次模 实现 band 双工器
【权利要求书】:

1.一种采用高次模实现的E-band双工器,其特征在于,所述E-band双工器包括:盖板和腔体,所述腔体内设有双工器主体;

所述双工器主体包括第一端口、公共端口和第二端口,所述第二端口传输信号的频率高于所述第一端口传输信号的频率;

所述第一端口与所述公共端口之间排列的谐振腔为高次模谐振腔,且所述公共端口与所述第二端口之间排列的谐振腔为高次模谐振腔。

2.根据权利要求1所述的E-band双工器,其特征在于,

全部谐振腔都是二次模谐振腔;或者,

全部谐振腔都是三次模谐振腔;或者,

部分谐振腔是二次模谐振腔,剩余谐振腔是三次模谐振腔。

3.根据权利要求1所述的E-band双工器,其特征在于,

所述第一端口与所述公共端口之间的一个目标谐振腔上设置有零腔结构,所述第二端口与所述公共端口之间的一个目标谐振腔上设置有零腔结构。

4.根据权利要求3所述的E-band双工器,其特征在于,所述零腔结构为位于所述目标谐振腔的上表面的凸出结构。

5.根据权利要求3所述的E-band双工器,其特征在于,

若设置有所述零腔结构的目标谐振腔为二次模谐振腔,则所述零腔结构设置在所述目标谐振腔的边缘位置;

若设置有所述零腔结构的目标谐振腔为三次模谐振腔,则所述零腔结构设置在所述目标谐振腔的中间位置。

6.根据权利要求3所述的E-band双工器,其特征在于,若所述零腔结构设置在所述第一端口与所述公共端口之间的一个目标谐振腔上,则所述零腔结构的尺寸的大小与第一距离的大小呈正相关关系,所述第一距离为所述目标谐振腔距离所述公共端口的距离。

7.根据权利要求3所述的E-band双工器,其特征在于,若所述零腔结构设置在所述第二端口与所述公共端口之间的一个目标谐振腔上,则所述零腔结构的尺寸的大小与第二距离的大小呈正相关关系,所述第二距离为所述目标谐振腔距离所述第二端口的距离。

8.根据权利要求1所述的E-band双工器,其特征在于,位于所述第一端口与所述公共端口之间,且与所述公共端口相邻的谐振器组用于消除寄生谐振,所述谐振器组中包含一个谐振器或相邻的多个谐振器。

9.根据权利要求1所述的E-band双工器,其特征在于,相邻谐振腔直接的耦合窗口的隔墙顶部和所述盖板不接触,且相邻谐振腔之间通过所述隔墙顶部与所述盖板之间的耦合缝隙进行耦合。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的E-band双工器,其特征在于,所述盖板与所述腔体之间通过螺钉固定。

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