[发明专利]一种金属蒸发料的表面处理方法

说明书

本发明提供了一种金属蒸发料的表面处理方法，所述方法包括以下步骤：将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗；将超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗，酸洗所用酸洗液为无机混合酸；将酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。本发明所述方法通过对金属蒸发料依次进行超声波清洗、酸洗，可有效去除蒸发料表面的杂质和氧化层，提高蒸发料的洁净度及纯度，纯度可达99.99％以上，有助于镀膜性能的提高；所述方法对于不同种类、形状的蒸发料均可适用，所述方法操作简单，易于工业化，所得产品合格率高。

技术领域

本发明属于半导体制备技术领域，涉及一种金属蒸发料的表面处理方法。

背景技术

随着集成电路产业的快速发展，半导体电子器件的需求量也日益增加，镀膜材料是半导体电子器件制造的重要材料，而镀膜材料的重要制备方法之一是物理气相沉积法(PVD)。物理气相沉积是一种在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材或蒸发料蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。目前，PVD技术是半导体芯片制造业、太阳能行业、液晶显示屏制造业等多种行业的核心技术。

PVD技术主要包括溅射技术和蒸发镀膜技术，其中后者常用的原料即为蒸发料，由于蒸发镀膜技术具有污染程度小的优点，应用范围越发广泛。而由于半导体器件精细化程度的日益提高，对镀膜材料的性能越发严格，这就需要提高镀膜蒸发料的纯度，降低杂质含量，以有助于高性能膜材料的制备。

CN 108987273A公开了一种银蒸发料的表面处理方法，依次包括提供银蒸发料、对所述银蒸发料进行离心研磨操作、对所述银蒸发料进行清洗操作以及对所述银蒸发料进行干燥处理的步骤；CN 108977770A公开了一种铜蒸发料的表面处理方法，依次包括提供铜蒸发料、对所述铜蒸发料进行第一酸洗操作、对铜蒸发料进行离心研磨操作、对铜蒸发料进行清洗操作以及对铜蒸发料进行干燥处理的步骤，该方法与上述银蒸发料的处理步骤在离心研磨前增加了酸洗操作，但两者对蒸发料的处理均有采用离心研磨的方式去除表面氧化层，该方式容易造成蒸发料杂质去除不完全，表面粗糙度不一致等问题；而且，离心研磨操作主要适用于球形颗粒状蒸发料的处理，对于其他形状的蒸发料的适用效果并不好。

综上所述，对于蒸发料的表面处理，还需要采用新的组合处理方式，以适应不同种类及形状蒸发料的需要，提高蒸发料的纯度和表面洁净度的同时，维持蒸发料的表面的均一性。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种金属蒸发料的表面处理方法，所述方法通过对金属蒸发料依次进行超声波清洗、酸洗，可有效去除蒸发料表面的杂质和氧化层，提高蒸发料的纯度及洁净度，有助于镀膜性能的提高。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种金属蒸发料的表面处理方法，所述方法包括以下步骤：

(1)将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗；

(2)将步骤(1)超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗，酸洗所用酸洗液为无机混合酸；

(3)将步骤(2)酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。

本发明中，所述金属蒸发料的表面处理主要是为了提高蒸发料的纯度以及表面的洁净度，从而用于蒸发镀膜时得到高性能的镀膜，而本发明所采用的的超声波清洗、酸洗则主要是针对蒸发料表面的杂质及氧化层，所述方法在去除杂质及氧化层的同时，不损坏蒸发料，且对于不同种类及形状的蒸发料均能适用，维持蒸发料表面的均匀一致性；；所述方法流程简单，易实现工业化，易于生产管控，产品的合格率高。

以下作为本发明优选的技术方案，但不作为本发明提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好地达到和实现本发明的技术目的和有益效果。