[发明专利]一种太阳能电池片镀膜装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202010348883.0 申请日: 2020-04-28
公开(公告)号: CN111424265A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 梁玲;刘宝华;郭丽 申请(专利权)人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/455;C23C16/54;C23C16/50;H01J37/32;H01L31/18
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 李富元
地址: 046000 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能电池 镀膜 装置 及其 使用方法
【说明书】:

发明涉及太阳能电池片镀膜领域。一种太阳能电池片镀膜装置,双层石英管的气体进出口端各自安装有一个法兰,气体进口段的法兰上安装有多个带阀门的工艺气体进口管,气体出口段的法兰(3)上有连接尾气处理装置的尾气管,双层石英管的气体进口端处安装有多层栅栏板,多层栅栏板(4)连接气体混合腔和镀膜腔,镀膜腔的中安装有旋转盘,镀膜腔的外侧安装有感应线圈,镀膜腔通过管路连接抽真空设备。

技术领域

本发明涉及太阳能电池片镀膜领域。

背景技术

太阳能电池生产有一个工艺段镀减反射膜工艺段(PECVD),该工艺段利用辉光放电的物理作用来激活粒子的一种化学气相反应,可在相对较低的温度下发生反应,在硅片表面沉积氮化硅薄膜。氮化硅薄膜具有减反射和钝化作用,提高了电池片开路电压和短路电流,进而提高了电池片转化效率。

PECVD工艺段生产过程中会产生大量不合格片,约占产线的2%。其中破片等原因造成的不合格片约占产线的0.15%。PECVD工艺段生产过程中会产生的大量不合格片主要是由于镀膜不合格造成的。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:如何减少PECVD工艺段生产过程中产生的不合格片。

本发明所采用的技术方案是:一种太阳能电池片镀膜装置,双层石英管(7)的气体进出口端各自安装有一个法兰(3),气体进口段的法兰(3)上安装有多个带阀门的工艺气体进口管(2),气体出口段的法兰(3)上有连接尾气处理装置(8)的尾气管,双层石英管(7)的气体进口端处安装有多层栅栏板(4),多层栅栏板(4)连接气体混合腔和镀膜腔,镀膜腔的中安装有旋转盘(5),镀膜腔的外侧安装有感应线圈(1),镀膜腔通过管路连接抽真空设备(6)。

作为一种优选方式,旋转盘(5)安装在底座固定在太阳能电池片镀膜装置上的电机的输出轴上。

一种太阳能电池片镀膜装置的使用方法,将待镀膜的硅片放置在旋转盘(5)中,然后使旋转盘(5)开始匀速转动,将工艺气体进口管(2)和尾气管上的阀门关闭,然后打开抽真空设备(6)进行抽真空,抽真空完毕后,关闭抽真空设备(6),开启工艺气体进口管(2)上的阀门,工艺气体通过多层栅栏板(4)稳流后进入镀膜腔,开启尾气管上的阀门,开启尾气处理装置(8),让工艺气体从工艺气体进口管(2)进入从尾气管排出,调整工艺气体进口管(2)和尾气管上的阀门开度,使镀膜腔中的工艺气体含量达到额定要求,然后开启感应线圈(1)开始给硅片镀膜,镀膜达到额定要求后关闭工艺气体进口管(2)中工艺气的阀门,开启工艺气体进口管(2)中氩气阀门,驱除工艺气体后,关闭工艺气体进口管(2)中氩气阀门、尾气处理装置(8)。

本发明的有益效果是:本发明通过多层栅栏板使工艺气稳定均匀进入镀膜腔中,避免工艺气体不均匀造成的不合格片,本发明采用硅片在转动中镀膜,进一步避免了不稳定、不均匀的工艺气对硅片的影响,本发明通过进气和出气在流动中进行镀膜,避免了硅片上气体消耗工艺气造成的工艺气体浓度下降及不均匀性对硅片镀膜的影响。

附图说明

图1是本发明的结构示意图;

其中,1、感应线圈,2、工艺气体进口管,3、法兰,4、多层栅栏板,5、旋转盘,6、抽真空设备,7、双层石英管,8、尾气处理装置。

具体实施方式

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