[发明专利]一种导电膜在审
| 申请号： | 202010349470.4 | 申请日： | 2020-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN111627596A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 张玉春;仲树栋 | 申请（专利权）人： | 北京载诚科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;G02B5/00 |
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| 地址： | 100094 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 导电 | ||
1.一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。
2.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属的氧/氮化物中氧或氮的原子百分百为1.5％-5.5％。
3.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，金属和该金属的氧/氮化物的重量比例为80-95:20-5。
4.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述电传导层包含最高点和最低点，所述最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm。
5.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属为银或铜。
6.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述电传导层是通过磁控溅射的方法形成。
7.根据权利要求6所述的导电薄膜，其特征在于，所述溅射的方法包括在将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在通入氧气或氮气之后开始溅射；所述惰性气体为氩气，氩气的充入量为280-320sccm。
8.根据权利要求7所述的导电薄膜，其特征在于，所述氧气或氮气的通入量为2-10sccm。
9.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述电传导层中金属的氧化物或金属的氮化物填充在所述金属的凹洼之处。
10.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述电传导层中金属的氧化物或金属氮化物与所述金属相互掺杂。
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