[发明专利]一种导电膜

说明书

本发明公开了一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。解决了金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。

技术领域

本发明涉及一种导电薄膜，尤其涉及一种用于显示领域的低阻导电薄膜。

背景技术

近年来，低阻导电薄膜因其低电阻被广泛应用于各个领域中，包括太阳能电池、图像传感器、液晶显示器、有机电致发光(OLED)和触摸屏面板。在这些领域两种，行业追求的是需要的波长范围内大的光学透明度和适当的电导率，并且不断在改革创新。

低阻导电薄膜结构中，通常采取复合叠层结构，其中关键的一层电传导层通常是采用金属层，其中该电传导层有两个重要的参数影响该低阻导电薄膜结构，一是导电率，二是光透过率。即该电传导层不宜太厚，否则影响光透过率，同时该电传导层不宜太薄，太薄的情况下，金属的特性导致制程容易出现岛状结构，即整个金属膜层呈现不连续的孤岛形态，岛状结构影响金属粒子迁移，从而影响低阻导电薄膜的导电率。

发明内容

为了解决以上问题，本发明提出了一种导电薄膜，由下至上依次为柔性衬底、光学调整层、耐候层、电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧/氮化物，所述电传导层的厚度小于或等于10nm。

优选的，所述金属的氧/氮化物中氧或氮的原子百分百为1.5％-5.5％。

优选的，所述金属和该金属的氧/氮化物的重量比例为80-95:20-5。

优选的，所述电传导层包含最高点和最低点，所述最高点和最低点之间的距离小于或等于3nm。

优选的，所述金属为银或铜。

优选的，所述电传导层是通过磁控溅射的方法形成。

优选的，所述溅射的方法包括在将金属靶材放于充有惰性气体的腔室内，在通入氧气或氮气之后开始溅射；所述惰性气体为氩气，氩气的充入量为280-320sccm。

优选的，所述氧气或氮气的通入量为2-10sccm。

优选的，所述电传导层中金属的氧化物或金属的氮化物填充在所述金属的凹洼之处。

优选的，所述电传导层中金属的氧化物或金属氮化物与所述金属相互掺杂。本发明解决了现有技术中金属作为电传导层，岛状结构引起的电传导效果不佳的问题，同时提高了导电薄膜的透光率。

附图说明

图1是本发明导电薄膜的一个实施例的剖面图。

具体实施方式

通过在本发明所提出的叠层结构中对于多种元件的位置使用例如“顶上”、“上”、“最上”、“下面”等取向单词，我们是指元件相对于水平设置的、面向上的支承体的相对位置。并不预期膜或制品在其制造期间或者之后在空间中应该具有任何具体取向。

本发明的“岛状结构”是指金属在承载层上微观呈现像岛屿一样形成的结构，该岛屿不与其他岛屿相连接。

本发明的“连续结构”是指金属在承载层上微观呈现像山脉连延的形状，在低谷也必须相连，也可以指金属上呈现平整的层状结构。

术语“光学透明的”当用于膜或层合的玻璃制品时是指通过肉眼在约1米的距离处检测，在膜或制品中没有视觉上可见的失真、模糊或缺陷。

术语“金属的氧/氮化物”是指该金属元素与氧元素组成的二元化合物或该金属元素与氮元素组成的二元化合物。