[发明专利]用于三维重构的方法、装置以及相关设备

说明书

本公开提供一种用于三维重构的方法、装置、电子设备、计算机可读存储介质、逻辑电路以及系统，该方法包括：将第一预测图像投影至目标对象，并通过第一曝光强度同步拍摄目标对象以获得目标对象各个像素点的目标灰度值；根据理想灰度值、第一曝光强度以及各个像素点的目标灰度值，确定目标对象各个像素点对应的理想曝光强度；按照理想曝光强度对目标对象的各个像素点进行分组统计，以获得分组统计结果；根据分组统计结果确定目标对象的理想曝光设置，以便根据理想曝光设置通过结构光技术对目标对象进行三维重构。本公开实施例提供的方法，可以确定一个能够覆盖目标对象多数像素点的理想曝光设置，以更好的对目标对象进行三维重构。

技术领域

本公开涉及图像处理技术领域，尤其涉及一种用于三维重构的方法、装置、电子设备计算机可读存储介质、逻辑电路以及系统。

背景技术

结构光技术是一种非接触式三维重构技术。它采用一个或多个光源将特定的单幅或多幅图案投影到被测物体上，同时以一个或多个图像传感器拍摄被测物体，通过对图像传感器采集得到的图像数据进行分析计算，最终获得包含深度信息的图像数据。

成像完整性是衡量三维重构技术的最重要指标之一。对于面结构光技术而言，合适的曝光强度至关重要，过曝或欠曝都会造成像素点重构失败，从而影响成像完整性。

因此，针对目标对象找到一种合适的曝光设置，并通过该曝光设置对目标对象进行三维重构，对提高目标对象三维重构的完整性至关重要。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开实施例提供一种用于三维重构的方法、装置、电子设备、计算机可读存储介质、逻辑电路以及系统，能够确定一种可以使得目标对象上的各个像素点尽可能成像的理想曝光设置，通过该曝光设置对目标对象进行三维重构，可以提高目标对象三维重构的完整性，并进一步的提高目标对象三维成像质量。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

本公开实施例提出一种用于三维重构的方法，该方法包括：将第一预测图像投影至目标对象，并通过第一曝光强度同步拍摄所述目标对象以获得所述目标对象各个像素点的目标灰度值；根据理想灰度值、所述第一曝光强度以及各个像素点的目标灰度值，确定所述目标对象各个像素点对应的理想曝光强度；按照所述理想曝光强度对所述目标对象的各个像素点进行分组统计，以获得分组统计结果；根据所述分组统计结果确定所述目标对象的理想曝光设置，以便根据所述理想曝光设置通过结构光技术，对所述目标对象进行三维重构。

在一些实施例中，所述目标对象包括第一像素点，所述第一像素点对应的目标灰度值为第一灰度值；其中，根据理想灰度值、所述第一曝光强度以及各个像素点的目标灰度值，确定所述目标对象各个像素点对应的理想曝光强度，包括：根据所述理想灰度值、所述第一灰度值以及所述第一曝光强度，获取基于所述目标测量图像获得所述理想灰度值时，所述第一像素点需要的第一目标曝光强度；根据所述第一目标曝光强度确定所述第一像素点的理想曝光强度。

在一些实施例中，根据所述第一曝光强度确定所述第一像素点的理想曝光强度，包括：将所述第一预测图像投影至所述第一像素点上，并通过第二曝光强度同步拍摄所述第一像素点以获得第二灰度值；根据所述理想灰度值、所述第二灰度值以及所述第二曝光强度，获取基于所述目标测量图像获得所述理想灰度值时，所述第一像素点需要的第二目标曝光强度；若所述第一目标曝光强度大于所述第二目标曝光强度，则所述第一目标曝光强度就是所述第一像素点的理想曝光强度。