[发明专利]一种吸盘移动机构

说明书

本发明公开了一种吸盘横移机构,包括龙门架、横移机构和硅片分离移动机构，所述横移机构和硅片分离移动机构设置于龙门架上，所述硅片分离移动机构包括升降装置和硅片吸取分离装置，所述硅片吸取分离装置包括硅片吸取装置、硅片分片装置和移动组件，所述硅片吸取装置用于吸取硅片，所述硅片分片装置用于分离硅片，所述移动组件用于移动硅片吸取装置，所述硅片吸取分离装置用于对硅片的吸取和分离，所述升降装置用于控制硅片吸取分离装置竖直移动，所述横移机构用于控制硅片吸取分离装置水平移动，本发明设置的两组机构同时运动提高了工作效率，并采用定位装置实现对设备的精准定位。

技术领域

本发明属于光伏领域，涉及一种吸盘移动机构。

背景技术

半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式，其中CVD即化学气相沉积，CVD技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工，常见的加工设备有PECVD、LPCVD、APCVD等，除了CVD之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等。目前行业内已有不少相关的设备，可以针对具体的加工需求来选择相应的设备进行加工，半导体或光伏材料的加工，通常是将片状材料送入炉中在一定温度和压力的条件下进行反应来实现。

在加工的过程中，需要在硅片吸取分离过程中进行横移，传统的横移方式工作效率低，精度低，定位不准确，同时需要将硅片成对抓取，并能对成对的硅片进行分片，传统的抓取分片工艺，人力成本高，工作效率低，且容易造成硅片破损，此设备有效地解决了这种问题。

发明内容

本发明为了克服现有技术的不足，提供一种吸盘移动机构。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：一种吸盘移动机构,其特征在于：包括龙门架、横移机构和硅片分离移动机构，所述横移机构和硅片分离移动机构设置于龙门架上，所述硅片分离移动机构包括升降装置和硅片吸取分离装置，所述硅片吸取分离装置包括硅片吸取装置、硅片分片装置和移动组件，所述硅片吸取装置用于吸取硅片，所述硅片分片装置用于分离硅片，所述移动组件用于移动硅片吸取装置，所述硅片吸取分离装置用于对硅片的吸取和分离，所述升降装置用于控制硅片吸取分离装置竖直移动，所述横移机构用于控制硅片吸取分离装置水平移动。

进一步的；所述龙门架包括底座，所述底座设置为对称的两组，所述底座上固设有龙门支柱，所述龙门支柱垂直于水平面设置，所述龙门支柱间固设有连接有龙门连柱，所述龙门支柱、底座和龙门连柱形成整体结构，所述龙门连柱上固设有龙门安装板，所述龙门安装板连接横移机构。

进一步的；所述横移机构包括移动装置、定位装置和调整装置，所述移动装置设置于龙门安装板上，所述定位装置设置于移动装置上，所述定位装置用于定位和控制移动装置的位置，所述调整装置用于调整移动装置。

进一步的；所述硅片分离移动机构包括升降装置和硅片吸取分离装置，所述升降装置用于控制硅片吸取分离装置竖直移动，所述硅片吸取分离装置固设于所述升降装置上，所述硅片吸取分离装置包括硅片吸取装置、硅片分片装置和移动组件，所述硅片吸取装置用于吸取硅片，所述硅片分片装置用于分离硅片。进一步的；所述升降装置包括滚珠丝杆组件、定位组件、限位机构和模组底板，所述滚珠丝杆组件驱动装置移动，所述定位组件用于定位和控制装置的位置，所述限位机构限制设备的移动范围。

进一步的；所述硅片吸取装置包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板、吸盘端块以及连接吸盘端板和吸盘端块的连接杆，所述连接杆将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘，所述吸盘上固设有吸取槽，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽吸取硅片。进一步的；：所述硅片分片装置包括吹气组件和固定吹气组件的支架组件，所述吹气组件包括有连通管，所述连通管用于对吹气组件供气，所述支架组件支撑吹气组件，所述吹气组件用于硅片分片。