[发明专利]一种合成革皮鞋的制作工艺在审
申请号: | 202010358010.8 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111519442A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 何磊;冯桂侠 | 申请(专利权)人: | 何磊 |
主分类号: | D06N3/00 | 分类号: | D06N3/00;D06N3/06;D06N3/14;A43D8/00 |
代理公司: | 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 | 代理人: | 孔令环 |
地址: | 325000 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合成革 皮鞋 制作 工艺 | ||
本发明属于合成革皮鞋技术领域,具体的说是一种合成革皮鞋的制作工艺;所述皮鞋包括鞋底和鞋帮;所述鞋底上表面粘接有鞋帮;所述鞋底内壁中安装有电源,且电源的开关延伸至鞋底外表面;所述电源左侧于鞋底内壁中安装有马达,且马达通过导线与电源电连接;所述马达左侧于鞋底内壁中开设有均匀布置的长槽;每个所述长槽内壁中均通过转轴转动连接有转棍;每个所述转棍之间均通过皮带转动连接;本发明主要用于解决目前的合成革皮鞋虽然耐磨性比较好但是其吸湿性和透气性不够完善,从而导致使用者容易出现出汗臭脚的现象,同时长时间穿着皮鞋对脚部有一定的危害,同时由于合成革本身的抗拉伸强度不高,从而会使皮鞋发生折弯形变的现象的问题。
技术领域
本发明属于合成革皮鞋技术领域,具体的说是一种合成革皮鞋的制作工艺。
背景技术
一般人会把真皮以外的合成革如:PVC、PU革统称为人造革或仿皮。PU是Polyurethane的縮写,中文名为聚氨基甲酸酯,简称聚氨酯。PU革在制作工艺上比PVC革要复杂一些,由于PU革的底布是抗拉强度好的帆布PU料,除了可以涂覆在底布的上面外,还可以将底布包含在中间,使之外观看不到底布的存在。pu革的物理性能要比PVC革好,耐曲折、柔软度好、抗拉强度大、具有透气性。PU的手感柔软,焚烧时产生的刺激性气味较淡。PU革则可以适用于鞋类的面料或承受重量的部位。PU革产品应用领域不断拓宽,从开始的鞋用、箱包领域,发展到服装、球类、装饰等其他特殊应用领域,由于合成革制作的皮鞋透气效果较差,从而导致使用者容易出现出汗臭脚的现象,特别是在夏天的销售人员每天都穿着皮鞋出门办公,由于天气的炎热再加上皮鞋的通透性较差从而进一步加剧使用者出现出汗和臭脚的现象,同时长时间穿着皮鞋对脚部有一定的危害,关于对合成革的介绍,可见刊期:罗娟,程书强,合成革工业生产评价体系研究.中国皮革.2020.(03),但是在目前的高弹性复合电缆中仍存在一些问题,具体包括以下方面:
目前的合成革皮鞋虽然耐磨性比较好但是其吸湿性和透气性不够完善,从而导致使用者容易出现出汗臭脚的现象,特别是在夏天的销售人员每天都穿着皮鞋出门办公,由于天气的炎热再加上皮鞋的通透性较差从而进一步加剧使用者出现出汗和臭脚的现象,同时长时间穿着皮鞋对脚部有一定的危害,同时由于合成革本身的抗拉伸强度不高,从而会使皮鞋发生折弯形变的现象的问题。
现有技术中也有一些关于合成革皮鞋的方案,如专利号201610397068.7专利名称为一种透气抗菌皮鞋的专利,该技术方案采用在鞋底上设有螺纹槽的来提高皮鞋的通透性,但是无法保证鞋底的密封性,同时通透效果较差。
鉴于此,为了克服上述技术问题,本公司设计研发了一种合成革皮鞋的制作工艺,制作了特殊的皮鞋,解决了上述技术问题。
发明内容
为了弥补现有技术的不足,本发明提出的一种合成革皮鞋的制作工艺,本发明主要用于解决目前的合成革皮鞋虽然耐磨性比较好但是其吸湿性和透气性不够完善,从而导致使用者容易出现出汗臭脚的现象,同时长时间穿着皮鞋对脚部有一定的危害,同时由于合成革本身的抗拉伸强度不高,从而会使皮鞋发生折弯形变的现象的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种合成革皮鞋的制作工艺;合成革由以下原料制成:
无纺布25-35份、PU树脂20-25份、超细纤维5-7份、抗菌母粒13-15份、丁酮3-5份、二甲基甲酰胺3-5份、邻苯二甲酸二辛酯15-20份、邻苯二甲酸二丁酯3-5份、除臭剂4-6份;
合成革皮鞋的制作工艺包括以下步骤:
S1:首先将上述原料中的丁酮和二甲基甲酰胺用水稀释混合,混合结束后将得到的混合液浸渍到无纺布上,浸渍时间为20-25分钟,浸渍结束后将无纺布挤压并放入烘干装置内烘干即得到基布;通过将丁酮和二甲基甲酰胺混合液浸渍在无纺布上可以提高无纺布的弹性和抗拉伸强度,通过将浸渍完成的无纺布进行烘干可以防止丁酮和二甲基甲酰胺的混合液与无纺布脱离,同时还可以稳固无纺布的特性;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于何磊,未经何磊许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010358010.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。